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光刻机 文章 进入光刻机技术社区

被美国给打醒!俄罗斯想造光刻机,全新的技术,对标了ASML的EUV

  • 被美国给打醒!俄罗斯想造光刻机,全新的技术,对标了ASML的EUV谁都知道,俄罗斯已经被美国全面打压了。俄罗斯的晶片需求量并不大,每年的进口量,也就是一亿美元左右,大部分的晶圆厂,都不会和美国竞争。但俄罗斯的一亿美金,在俄罗斯来说,就是一个天文数字。俄罗斯将会做什么?前段时间,有消息说俄罗斯准备重新做一台光刻机。他的目标很明确,就是要用ASML的最新光刻机,去挑战目前最尖端的EUV(UV)。当然,ASML也不可能战胜ASML,因为ASML的EUV光刻机,都是全世界的人帮忙做的,俄罗斯这边,根本就没有人去做
  • 关键字: 光刻机  俄罗斯  

瞄准 3D 结构半导体制造封装需求,尼康力图实现光刻机出货量倍增

  • 集微网消息,据日经新闻报道,尼康公司日前提出半导体光刻设备新的业务发展目标,即到 2026 年 3 月为止的财年,将光刻机年出货量较目前的三年平均水平提高一倍以上。报道称,尼康将积极开拓除英特尔以外的其他客户,特别是日本本土和中国地区客户,计划将英特尔在光刻机设备营收中所占比重从 80% 降低到 50%。尼康还将推出适应 3D 堆叠结构器件如存储半导体、图像传感器制造需求的光刻机新产品,已提高其在成熟制程设备市场的竞争力,目前,该公司平均每年售出 16 台 ArF 光刻机(含二手翻新)。
  • 关键字: 尼康  光刻机  半导体  

俄罗斯7万名IT专家出走!芯片储备告警,俄罗斯自主研发光刻机

  • 在俄罗斯开始对乌克兰的特别军事行动之后,西方国家开始对俄罗斯施加各种各样的制裁。俄罗斯当前面临严峻的商业环境和政治环境,许多信息产业的科技人才纷纷出走,寻找更加安全且有保障的就业环境。根据美媒1日的报道,乌克兰战争爆发以来已经多7万多名IT技术专家从俄罗斯离开,一些国家向俄罗斯的专业技术人才招手,充实自己的高新技术产业的发展。俄罗斯大量信息技术人才流失的情况已经得到俄罗斯电子通讯协会方面的承认,该协会上周向俄罗斯杜马委员会递交的报告之中指出,当前俄罗斯已经流失了5万到7万人的科技人才。尽管当前俄罗斯的人才
  • 关键字: 俄罗斯  光刻机  芯片  

显卡、内存全在跌 ASML的EUV光刻机卖不动:一下少了15台

  • 全球半导体市场从产能紧张已经转向过剩,部分领域跌价跌得厉害,比如显卡、内存及SSD等,这一波芯片价格下滑也会影响厂商的生产计划,结果就是ASML一度供不应求的EUV光刻机卖不动了,今年出货量减少15台。ASML昨天发布了2022年Q2季度财报,当季净销售额为54.31亿欧元,好于市场预期的52.6亿欧元,上年同期为40.20亿欧元,同比增长35%。净利润为14.11亿欧元,上年同期为10.38亿欧元,同比增长36%。虽然业绩大涨,但是ASML对全年的预期更加悲观,从之前预期增长20%下调到了增长10%,其
  • 关键字: 半导体  ASML  光刻机  

卡脖子也没用 国内厂商芯片新技术绕过EUV光刻机

  • 毫无疑问,如今国内芯片厂商面前最大的障碍就是EUV光刻机,不过EUV光刻机是研制先进芯片的一条路径,但并非唯一解。    对于国内厂商来说,当前在3D NAND闪存的发展上,就因为不需要EUV机器,从而找到了技术追赶的机会。而在DRAM内存芯片领域,尽管三星、美光、SK海力士找到的答案都是EUV,可来自浙江海宁的芯盟则开辟出绕过EUV光刻的新方案。芯盟科技CEO洪沨宣布基于HITOC技术的3D 4F2 DRAM架构问世。他指出,基于HITOC技术所开发的全新架构3D 4F2 DRA
  • 关键字: 芯片  EUV  光刻机  

台积电高管:将在2024年引入阿斯麦最新极紫外光刻机

  •   6月17日消息,据外媒报道,台积电高管周四表示,该公司将在2024年引入荷兰厂商阿斯麦的最新一代光刻机。  台积电研发高级副总裁米玉杰在硅谷举行的技术研讨会上表示,“展望未来,台积电将在2024年引入高数值孔径的极紫外光刻机,为的是开发客户所需相关基础设施和模式解决方案,进一步推动创新。”  米玉杰并未透露新一代光刻机引入后何时用于大规模生产芯片。阿斯麦推出的第二代极紫外线光刻机能用于制造尺寸更小、处理速度更快的芯片。台积电竞争对手英特尔公司此前表示,将在2025年之前开始使用新一代光刻机生产芯片,并
  • 关键字: 台积电  光刻机  

佳能新发售KrF半导体光刻机“FPA-6300ES6a”Grade10升级包

  • 佳能将于2022年8月初发售KrF ※1半导体光刻机“FPA-6300ES6a”的“Grade10”产能升级配件包(以下简称“Grade10”升级包)。KrF半导体光刻机“FPA-6300ES6a” 自发售至今,已经在生产存储器和逻辑电路的大型半导体器件制造厂商中收获良好口碑,此次发布的“Grade10”升级包将助力该设备在300mm晶圆规格基础上,以每小时高达300片※2晶圆的加工能力实现半导体光刻行业内的更高水平※3。           
  • 关键字: 光刻机  KrF  

ASML 分享 High-NA EUV 光刻机最新进展:目标 2024-2025 年进厂

  • 5 月 29 日消息,半导体行业花了十多年的时间来准备极紫外线 (EUV) 光刻技术,而新的高数值孔径 EUV 光刻(High-NA EUV)技术将会比这更快。目前,最先进的芯片是 4/5 纳米级工艺,下半年三星和台积电还能量产 3nm 技术,而对于使用 ASML EUV 光刻技术的 Twinscan NXE:3400C 及类似系统来说,它们大都具有 0.33 NA(数值孔径)的光学器件,可提供 13 nm 分辨率。目前来看,这种分辨率尺寸对于 7 nm / 6 nm 节点 (36 nm ~ 38 nm)
  • 关键字: EUV  光刻机  ASML  

业绩超预期:日本佳能光刻机销售火爆

  • 光刻机是半导体芯片制造中的核心设备,日本佳能公司也有光刻机,现在卖得也不错,推动业绩大涨。很多人都知道佳能主业是相机,不过这几年全球数码相机业务持续下滑,佳能也难免受到冲击,最近几年增长的反而是其他业务,该公司即将发布2022财年(2021年4月到今年3月),预计全年利润可达2500亿日元,约合19亿美元或者126亿人民币,比1月份公布的指引高出50亿日元,同比大涨20%。推动佳能业绩大涨的业务主要是安全摄像头以及光刻机,而且随着半导体设备投资的增加,佳能的光刻机业务还会持续增长。从佳能官网上可以查到,该
  • 关键字: 佳能  光刻机  

ASML公司开撕美国?光源技术不是根源,不交付EUV光刻机另有原因

  • ASML公司虽然是荷兰企业,但不少网友都把ASML公司“美”化了,这里的“美”指的是美国。在华为遭遇到芯片封锁之前,中国半导体企业就曾向ASML公司支付了定金,采购了一台EUV光刻机。然而,ASML公司却迟迟没有发货,这也引起了网友的各种猜疑。众所周知,全世界只有ASML公司能够生产EUV光刻机,而一部EUV光刻机上就有超过10w的精密零件,各方面的技术也是来自全世界各国的顶尖技术。所以ASML公司的光刻机一直是供不应求。但明明已经收了定金,10亿一部的EUV光刻机,ASML公司为何有生意不做呢?大部分的
  • 关键字: EUV  ASML  光刻机  

俄罗斯投资6.7亿卢布,开发新型的光刻机,性能或将超越EUV光刻机

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  • 关键字: EUV  光刻机  俄罗斯  叠加芯片  

投资5000多万 俄罗斯计划研发全新EUV光刻机:ASML都没有

  • 光刻机是半导体制造中的核心设备之一,EUV光刻机全球也只有ASML公司能够研发、生产,但它的技术限制也很多,俄罗斯计划开发全新的EUV光刻机,使用的是X射线技术,不需要光掩模就能生产芯片。  光刻机的架构及技术很复杂,不过决定光刻机分辨率的主要因素就是三点,分别是常数K、光源波长及物镜的数值孔径,波长越短,分辨率就越高,现在的EUV光刻机使用的是极紫外光EUV,波长13.5nm,可以用于制造7nm及以下的先进工艺工艺。  俄罗斯莫斯科电子技术学院 (MIET)现在就接下了贸工部的6.7亿卢布资金(约合51
  • 关键字: 光刻机  ASML  

光刻机“电老虎” 中芯国际一年耗电29亿度:不到台积电零头

  • 芯片制造是公认的高科技,但是这也是个非常消耗电力及水力的行业,其中的关键设备光刻机就是名副其实的电老虎,EUV光刻机一天就能耗电3万度以上,导致晶圆生产中电费都是高成本的存在。那国内最大的晶圆制造企业中芯国际到底有多耗电呢?该公司日前也发布了企业责任报告,公布了2021年度的能耗情况,具体如下:2021年,中芯国际能源消耗总量为2,887.69百万千瓦时,能源消耗强度为12.77千瓦时 /8 吋晶圆当量-光罩数,与 2020年基本相当。简单来说,中芯国际去年的总能耗大概是28.9亿度电,其中直接的电力消耗
  • 关键字: 中芯国际  光刻机  台积电  

佳能将于2023年上半年发售3D半导体光刻机,曝光面积是现在的4倍

  • 4 月 1 日消息,据日经中文网报道,佳能正在开发用于半导体 3D 技术的光刻机。佳能光刻机新品最早有望于 2023 年上半年上市。曝光面积扩大至现有产品的约 4 倍,可支持 AI 使用的大型半导体的生产。3D 技术可以通过堆叠多个半导体芯片使其紧密连接来提高性能的方式。据介绍,在放置芯片的板状零部件上,以很高的密度形成以电气方式连接各个芯片的多层微细布线,佳能就正在开发用于形成这种布线的新型光刻机,过在原基础上改进透镜和镜台等光学零部件,来提高曝光精度以及布线密度。据称,普通光刻机的分辨率为十几微米,但
  • 关键字: 佳能  3D半导体  光刻机  

攻克“光源中的光源”,中国有机会

  • 当前,芯片问题广受关注,而半导体工业皇冠上的明珠——以极紫外(EUV)光刻机为代表的高端光刻机,则是我国集成电路(IC)产业高质量发展必须迈过的“如铁雄关”。如何在短期内加快自主生产高端光刻机的步伐,打破国外的技术封锁和市场垄断?笔者认为,应找准关键技术,攻克核心设备,跻身上游产业。认清光刻关键技术对于光刻机,凭什么美国可以左右荷兰阿斯麦公司(ASML)EUV光刻机的出海国家?ASML又为什么“愿意”听从美国的“摆布”?一方面,美国在ASML早期研发阶段给予大力扶持,帮助其获取最新的研究成果;作为继续扶持
  • 关键字: 光刻机  ASML  
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