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光刻机 文章

片内相位测量工具模拟光刻机

  • 关键字:片内相位测量 模拟光刻机采用特殊照明方式的高/超高数值孔径(NA)的193nm光刻机和相位移掩膜版(PSM),使得光刻分辨率的极限达到了32nm节点。不利的因素是掩膜的复杂度正在以指数级递增,而业界又迫切需要
  • 关键字: 相位测量  模拟  光刻机    

ASML TWINSCAN系统实现新的里程碑

  •   ASML近日宣布,两位使用TWINSCAN 光刻机的芯片制造商实现了生产新纪录,即在24小时内实现了超过4000片晶圆的处理。这个里程碑记录是在XT:870和XT:400上实现的,两家使用者为亚洲的不同客户。设备帮助他们提高了300mm光刻生产能力。  
  • 关键字: 光刻机  晶圆  

沉浸式光刻机供货紧缺 台系内存芯片厂制程升级受阻

  •   据内存业者透露,由于著名光刻设备厂商ASML生产的NXT:1950i沉浸式光刻机目前供货十分紧缺,因此台系内存芯片厂商收到所订购的这种设备的时间 可能会再后延12个月之久,由于NXT:1950i沉浸式光刻机对这些厂商转移到38nm以上级别制程至关重要,因此预计台系内存芯片厂商制程转换的进度 会受到较大的影响。NXT:1950i 是荷兰ASML公司最新开发的沉浸式光刻机,可用于制造12英寸32nm及以上级别制程的产品.   此前曾有报道称 NXT:1950i的订货至到货日期已经被拉长到了将近12个月,
  • 关键字: ASML  光刻机  内存芯片  

Imec和ASML共同验证用于沉浸式光刻的新型照明系统

  •   Imec和ASML已合作验证ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可编程照明系统FlexRay,通过22nm SRAM单元的制造展示了其潜在应用价值。今年10月,imec使用的ASML XT:1900i扫描光刻设备将安装FlexRay产品,帮助imec进一步开拓沉浸式光刻技术的应用。
  • 关键字: ASML  光刻机  

ASML Q2业绩创新高 6套EUV设备将交货

  •   ASML日前宣布,其2010年Q2净销售达到1,069 million欧元,净收入为239 million 欧元,Q2的净订单价值1,179 million 欧元,包括了48套新系统及11套二手系统。各项数据均较2010年Q1有所提高。   ASML总裁兼CEO Eric Meurice认为,Q2销售的强劲增长证明了半导体产业近期对于光刻设备的需求,已有近20套NXT:1950i 设备运出。所有ASML的先进NXT光刻机都包括了一个或多个一体化光刻部件。对于下一代将要应用于20nm以下节点的产品,E
  • 关键字: ASML  光刻机  

09尼康Nikon光刻机销售下降

  •   Nikon的09半导体设备销售额与08年相比下降31.7%为16亿美元。   09年亏损6,32亿美元, 相比于08年盈利8600万美元。其中半导体用光刻机销售数量下降40%及LCD用光刻机下降30%。   按路透社报道,日本尼康公司计划在2011年3月底结算的年度中, 销售半导体用光刻机48台, 相比09年的36台,及LCD用光刻机58台, 相比09年的45台。
  • 关键字: Nikon  光刻机  

全球存储器短缺的三个理由

  •   2010年全球存储器可能出现供应缺货,而且非常可能会延续下去。为什么?可能有三个原因,1),存储器市场复苏;2),前几年中存储器投资不足;3),由ASML供应的光刻机交货期延长。   巴克菜投资公司的分析师 Tim Luke在近期的报告中指出,通过存储器的食物供应链看到大量的例证,认为目前存储器供应偏紧的局面将持续2010整年,甚至延伸到2011年。   据它的报告称,2010年全球NAND闪存的位增长可达70%,而2009增长为41%。2010年全球DRAM的位增长达52%。   Luke认为
  • 关键字: 存储器  NAND  光刻机  

半导体设备制造商面临六大挑战

  •   2009年对于半导体设备制造商是不可忘怀之年。所有制造商都受到危机的影响,但是2010年半导体工业正处于恢复之中,然而设备制造商仍面临众多的挑战。   在SEMI主办的ISS会上Globalfoundries的fab2总经理 Norm Armour列出设备制造商面临的六大挑战。   1 兼并加剧   由于在有的设备类中仍有4-5家制造商,所以兼并将加剧。当然也有如光刻机,仅剩下两家,但是CVD,PVD,Etch仍显太多。   2 光刻机价格高耸   用在光刻上的投资越来越大(一台193nm浸
  • 关键字: 半导体设备  光刻机  设备制造  

半导体业衰退重创设备业

  •   在全球金融危机影响下,半导体业正进入前所未遇的严重衰退时期,半导体固定资产投资在2008年下降27.3%基础上,2009年将再下降34.1%。综合分析各大分析机构的预测数据,2009年全球半导体业年销售额的下降幅度将在15%到20%之间。   半导体设备业受灾最重   半导体产业链中设备业受到的影响相对最为严重。依Gartner公司的官方数据显示,全球半导体业固定资产投资两年来逐渐下滑,2007年为592亿美元,2008年下降了27.3%,为490亿美元,而09年将再次下降34.1%,为323亿美
  • 关键字: 应用材料  半导体  存储器  处理器  光刻机  芯片制造  200906  

KLA-Tencor推出可解决二次成像挑战的首款计算光刻机

  •   KLA-Tencor 公司(纳斯达克股票代码:KLAC)今天推出其领先业界的最新版计算光刻机 PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案,并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战,尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。   KLA-Tencor 制程控制信息部副总裁兼总经理 Ed Charrier 指出:“由于光刻复杂性及实验成本的大幅增加,电路设计师与芯片制造商不得不面对二次成像光刻所带来的挑战。计算光刻已成为控制这
  • 关键字: KLA-Tencor  光刻机  二次成像光刻  

中芯国际今年将进全球45纳米"俱乐部"

  •   中芯国际正悄悄从海外进口关键设备,欲抢在今年年底试产45纳米芯片,从而进入全球半导体代工业45纳米的“俱乐部”。   消息人士对《第一财经日报》透露,29日中芯国际上海12英寸厂采购浸润式光刻机已到位,“这标志着中芯国际在量产45纳米芯片方面有了生产保障。”   天价光刻机悄悄到厂   本报获悉,这是中国大陆的第一台浸润式光刻机,该设备由荷兰ASML生产,后者是全球这一领域的第一大供应商。上述消息人士透露,由于光刻机属高精密设备,为防止震动,从机场
  • 关键字: 中芯国际  45纳米  芯片  半导体  台积电  光刻机  
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光刻机介绍

国外半导体设备 我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台, 金丝球焊机,电子束蒸发台。 溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸 精密划片机,300毫米清洗机,。 如您感兴趣请登录以下网站或Email: 网址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看详细 ]

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