3 月 8 日，ASML 发表声明回应荷兰政府即将出台的半导体设备出口管制措施。ASML 称，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统，ASML 将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式 DUV 系统。ASML 强调，这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行记者会上，有媒体提问，据报道，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔向荷议会致函称，出于国家安全考虑，荷兰将于今年夏天之前对其芯片出口实施限制性措施。中方对此有何评论？外交部发言人毛
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光刻机 EUV DUV
IT之家 3 月 13 日消息，佳能于今日发售了面向前道工序的半导体光刻机新产品 —— i 线步进式光刻机“FPA-5550iX”，该产品能够同时实现 0.5μm（微米）高解像力与 50×50mm 大视场曝光。据介绍，新产品“FPA-5550iX”能够同时实现 50×50mm 大视场及 0.5μm 高解像力曝光，在不断趋向高精尖化的全画幅 CMOS 传感器制造领域中，使得单次曝光下的高解像力成像成为可能。同时，通过充分利用高解像力与大视场的优势，“FPA-5550iX”也可应用于头戴式
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佳能 光刻机
众所周知，当前全球只有ASML一家能够生产EUV光刻机，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有ASML能够生产光刻机，不会有第二家。原因在于ASML把EUV光刻机的路堵住了，这条路别人是走不通的。ASML与全球众多的供应链，形成了捆绑关系，像蔡司等与ASML形成了利益共同体，EUV光刻机中，蔡司等厂商至关重要，掌握核心科技，缺少这些供应链，其它厂商不可能制造出EUV光刻机。所以，目前众多的其它光刻机企业，并不打算走EUV光刻机这条路，在另寻它路。同样的，国产光刻机基本上也走不通EUV这条路，只能另寻他路，而
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ASML EUV 光刻机
日前，ASML又正式官宣，2023年营收预计增长25%，预计国内市场营收将会稳定在22亿欧元。数据显示，一台DUV光刻机的售价大约在2000万美元，22亿欧元大约可以购买超100台DUV光刻机，这意味着ASML预计今年向国内出货超100台DUV光刻机。不管如此，ASML宣布到2025年，DUV光刻机产能将会达到600台，EUV光刻机产能达到90台，这意味着未来一段时间内，DUV光刻机仍是主力出货设备。对此，就有外媒表示美国急不急？首先，光刻机是生产制造芯片的必要设备，也是美掌握为数不多的卡脖子设备，一旦光
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DUV 光刻机 ASML
IT之家 2 月 21 日消息，在逻辑、存储器、CMOS 传感器等尖端半导体领域，制造工艺日趋复杂，半导体元器件制造厂商为了制造出高精度的半导体元器件，需要提高套刻的精度，因而曝光前要测量的对准测量点也越来越多。如果在半导体光刻机中对数量众多的测量点进行对准测量的话，测量本身会非常耗时，进而就会降低半导体光刻机的生产效率。为此，半导体制造领域引进了晶圆测量机，将半导体光刻机的对准测量功能分离出来，以此来确保生产的高精度和效率。2 月 21 日，佳能推出了半导体制造用晶圆测量机“MS-001”，该
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佳能 光刻机
2019年，无论从那个角度来说，都是最好的一年。在那一年的智能手机消费市场中，手机品牌竞争激烈，纷纷拿出了不少产品力很强的产品，三星、华为、苹果分别位列全球前三。这一年，是手机市场巅峰，也是华为最强盛的时期，这一年，华为全年智能手机出货量高达2.4亿台，超越苹果，紧逼三星；这一年，华为的营收高达8588亿人民币，其中智能手机为主的消费者业务贡献了4673亿人民币，占到了一半以上的营收比例，是华为最大的营收来源，赚钱能力强。可也就是这一年，美国开始了对华贸易战，开始了对于华为的全面打压，首先，谷歌禁止了华为
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华为 芯片 光刻机 ASML
当地时间，2023年1月25日，荷兰光刻机龙头ASML发布了2022年第四季度和全年业绩。2022年第四季度的净销售额为64亿欧元，达到了预期目标区间中位，毛利率为51.5%，高于预期。同时，毛利率还受到去年ASML柏林工厂火灾导致的额外升级和保险赔偿影响。2022年全年ASML总净销售额为212亿欧元，毛利率为50.5%，净利润为56亿欧元。另外，2022年底，ASML未交付订单创下历史新高，达404亿欧元，该年总共销售317台新光刻机，较前一年增长31台，此外还出货了28台二手光刻机。展望未来，ASM
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光刻机 ASML
芯片制造离不开光刻机，数据显示，全球晶圆制造材料中的第一大耗材是硅片，第二大就是电子特气。以光刻为例，需要的电子特气就包括氖气、氩气、氪气、氙气等几种稀有气体。这是因为光刻气体是光刻机产生激光的光源，难以取代。其中氖气主要用于深紫外光刻领域，服务1x nm到180nm芯片的加工。因为乌克兰占全球氖气供应比例高达70%，所以去年一度，氖气的价格飙升了20倍。不过来自TheElec的报道称，氖气的价格已经明显下跌，这主要是因为中国、韩国等供应商的加入。
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光刻机 电子特气 降价
说到光刻机大家难免会想到三个厂商，荷兰的ASML公司、尼康和佳能。而光刻机就是制造芯片的核心装备。现如今光刻机领域的核心地位就是荷兰的ASML，他与台积电合作，共同突破了沉浸式DUV光刻机，也正因为此动作，才奠定了ASML在光刻机领域的核心地位。后续ASML又推出了更加高端的EUV光刻机，而且还是独家垄断生产。这就进一步使得ASML成为行业的巨头。随着科技的不断发展，市场就要越来越追求高性能以及高要求，ASLM造成的长时间垄断，导致其他同行没有办法发展。在他自身无法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
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光刻机 ASML DUV EUV
最新消息显示，尽管全球经济将放缓，但三星仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能，明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备（EUV），用于生产最新的12nm级内存芯片，而三星目前仅有40台EUV光刻机。
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IT之家 12 月 7 日消息，据台湾地区经济日报报道，光刻机巨头 ASML 将扩大在台湾地区的投资。ASML 台湾地区新工厂预计将在明年 7 月动工，是该公司在当地的最大投资，并计划把欧洲供应链带到台湾地区。台媒指出，ASML 带来的欧洲供应链将会落地林口工一研发中心、桃园龟山两处，未来不排除以相同模式陆续在新竹、台中、台南落地。此外，ASML 带来的主要为设备维修及组装。数据显示，2022 年第三季度，ASML 实现了净销售额 58 亿欧元（约 425.72 亿元人民币），毛利率为
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光刻机 ASML
12 月 4 日消息，据 ETNews 消息，三星电子首次引入东进世美肯半导体的光刻胶进入其量产线，这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。不过考虑到三星与海外光刻胶供应商的关系，目前具体产量尚不清楚，且三星是否会额外引进其他品种的光刻胶也并没有得到回应。报道称，三星电子已将韩国公司开发的用于高科技工艺的极紫外光刻胶（PR）引入其大规模生产线。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韩国出口包括含氟聚酰亚胺、光刻胶以及高纯度氟化氢在内的三项重要半导体及 OLED 面板原材料，经过三年的努力，韩国实现了光刻
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三星 光刻机 光刻胶
都知道光刻机单台成本非常的贵，但是你知道有多贵吗？一台数亿美元的光刻机让我们看到了一款硬件设备的价格极限，然而，ASML CEO Peter Wennink最新接受媒体采访时透露，他们正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备，而高NA EUV光刻机系统的单台造价将在300亿到350亿欧元之间，约合人民币2195到2561亿元。这个价格什么概念，一搜顶级航母的价格差不多在100亿美元左右，而这台硬件设备可以买三艘顶级航母，而ASML目前在售的双工件台EUV光刻机不过数亿美元，作为下一代产品身价
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光刻机 ASML EUV
（中国上海，2022年11月4日）—— 今年，半导体行业的领先供应商ASML将以“光刻未来，携手同行”为主题继续亮相第五届中国国际进口博览会（以下简称“进博会”）技术装备展区4.1展馆A0-01展台。届时，ASML将首次通过“元宇宙”平台，带来沉浸式的光刻体验，彰显前沿科技，推动行业发展。 “今年是ASML第四次参展进博会，我们希望借助进博会的平台不断地展现开放共赢、合作发展的理念。”ASML全球高级副总裁、中国区总裁沈波表示，“ASML一直秉持开放与专注，以‘开放式创新’和对光刻技术的专注，持
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ASML 进博会 光刻机
本周美光宣布，采用全球最先进1β(1-beta)制造工艺的DRAM内存芯片已经送样给部分手机制造商、芯片平台合作伙伴进行验证，并做好了量产准备。 1β工艺可将能效提高约15％，存储密度提升35％以上，单颗裸片(Die)容量高达16Gb(2GB)。 一个值得关注的点是，美光称，1β绕过了EUV（极紫外光刻）工具，而依然采用的是DUV（深紫外光刻）。 这意味着相较于三星、SK海力士，美光需要更复杂的设计方案。毕竟，DRAM的先进性很大程度上取决于每平方毫米晶圆面积上集成更多更快半导体的能力，各公司目
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美光 DRAM 内存芯片 光刻机 EUV
光刻机介绍
国外半导体设备
我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台,
金丝球焊机,电子束蒸发台。
溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸
精密划片机，300毫米清洗机,。
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