- 12月21日，荷兰光刻机巨头ASML通过社交媒体宣布，其首套高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻机正从荷兰Veldhoven总部开始装车发货，将向英特尔进行交付。数值孔径（NA）是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率和最高能达到的工艺节点。
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- IT之家 12 月 22 日消息，ASML 公司近日通过官方 X（推特）账号发布推文，宣布已经向英特尔交付首台高数值孔径光刻设备。IT之家此前报道，ASML 研制的高数值孔径光刻设备主要用于生产 2nm 工艺半导体芯片，数值孔径（NA）光学性能从 0.33 提高到 0.55。ASML 明年规划产能仅有 10 台，而英特尔已经预订了其中 6 台，不过 ASML 计划在未来几年内将此设备产能提高到每年 20 台。ASML 新的高数值孔径 EUV 系统涉及一种全新的工具，具有 0.55 数值孔径的镜头
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- 光刻机作为芯片制造的核心设备，被誉为现代工业皇冠上的明珠。它的重要性可以从半导体产业链的角度来看。芯片作为电子产品的核心组件，直接决定了企业和国家科技产业发展的上限。而光刻机作为芯片制造的核心工具，直接影响着芯片的制造工艺和性能。因此，拥有自主的光刻机制造能力对于一个国家来说至关重要。然而，中国科学家在向ASML公司请教技术问题时遭遇了嘲讽，这揭示了中国芯片产业在光刻机制造领域的薄弱之处。光刻机的制造难度极高，组装一台光刻机需要十万个零部件，且每个零部件都要达到行业内的最高水准。由于ASML公司使用了大量
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- 尽管半导体产业仍处调整周期中，但部分应用市场需求强劲，正吸引半导体厂商积极扩产，而在芯片制造过程中，制造设备不可或缺。近期，为满足市场需要，全球光刻机大厂ASML又有新动作。ASML大手笔，每年1亿欧元扶持柏林厂据德国媒体《商报》（Handelsblatt）报道，近日，荷兰半导体公司阿斯麦（ASML）将在2023年投资1亿欧元（1.09亿美元），未来几年每年将投资相同金额，扩大其位于德国柏林制造工厂的生产和开发能力。ASML德国区董事总经理George Gomba表示，劳动力也将随之增加。Gomba表示自
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- 据三菱UFJ摩根士丹利证券数据显示，目前在全球光刻机市场中，掌握了62%市场份额的ASML排行第一，佳能以占比31%取得第二名，而尼康占比仅7%排在了第三位。不过据日经新闻报道，尼康为了重振业绩将转变半导体光刻机业务的战略，决定逆势积极开拓中国市场，向中国出口不受出口管制限制的成熟设备。在美国对华实施出口管制的背景下，EUV等先进光刻机、材料被禁止对华出口。尼康精机业务负责人滨谷正人表示，正与日本经济产业省讨论，认为新款光刻机没有问题，将在中国市场积极销售。目前尼康除了相机影像业务外，半导体设备相关的精机
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- 日本尼康（Nikon）为了重振业绩，将大幅转变半导体光刻机业务的战略。目前全球市占率排名第3的尼康将采用不违反对华出口管制的成熟技术设备，在2024年投放新产品，通过寻求逆势开拓中国市场，以实现卷土重来。《日经中文网》报导说，尼康预测2023财年（截至2024年3月）的合并凈利润将同比减少22%，降至350亿日元（约合台币72亿元）。半导体设备相关的精密机械业务以及相机影像业务是2大支柱，其中高档微单相机销售强劲，但精密机械业务低迷影响获利。报导说，光刻机是半导体制造的核心，三菱UFJ摩根士丹利证券的调查
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- 日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种新的芯片制造技术，并宣布推出“FPA-1200NZ2C”纳米压印半导体制造设备集群。计划将新型芯片制造设备的价格定为阿斯麦极紫外光刻机的十分之一左右，从而在光刻机领域取得进展。佳能首席执行官御手洗富士夫（Fujio Mitarai）表示，基于NIL的新型芯片制造设备售价将比阿斯麦（ASML）的极紫外光刻（EUV）设备少一位数，虽然最终的定价目前还没有敲定，但是可以预见将为小型芯片制造商生产先进芯片开辟出一条新的道路。
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- 11月6日消息，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）表示，自家在中国市场明年业务非常乐观。ASML中国区总裁沈波强调，今年阿斯麦中国的业务增长很快，预期全年中国占阿斯麦全球的营收会超过20%，对明年在中国的业务也非常的乐观。沈波表示："我们2023年在中国的招聘是超过200人的，2024年预计业务的发展会继续带来很多需求，团队的扩充应该还会是一个相对比较大的规模。"按照沈波的说法，从1988年首台机器运到中国，到2023年底，ASML在中国的光刻机加上量测的机台装机量接近1400台。近期美
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- 11月6日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种新的芯片制造技术，并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分，从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻（EUV）技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示，该公司最新的纳米压印技术将为小型芯片制造商生产先进芯片开辟出一条道路。“这款产品的价格将比阿斯麦的EUV少一位数，”现年88岁的御手洗富士夫表示。这是他第三次担任佳能总裁，上一次退
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- 佳能在 10 月 13 日宣布，正式推出纳米压印半导体制造设备。对于 2004 年就开始探索纳米压印技术的佳能来说，新设备的推出无疑是向前迈出了一大步。佳能推出的这个设备型号是 FPA-1200NZ2C，目前可以实现最小线宽 14nm 的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的 5 纳米节点。佳能表示当天开始接受订单，目前已经向东芝供货。半导体行业可谓是「苦光刻机久已」，纳米压印设备的到来，让期盼已久的半导体迎来一线曙光。那么什么是纳米压印技术？这种技术距离真的能够取代光刻机吗？纳米压印走向台前想要
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- 10 月，光刻机大厂佳能（Canon）公司通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于「纳米印刷」（Nanoprinted lithography）技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5nm 芯片。消息一出，不少人发现这种设备已经达到了 EUV 光刻机的水平，甚至将颠覆行业巨头 ASML。自从 ASML 成功取代尼康佳能，成为高端光刻机的唯一王者之后，这还是第一次传出这么震撼的消息。日本的光刻机，从称霸到被甩开，经历了什么？来自上个世纪的光鲜上世纪末
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- IT之家 10 月 18 日消息，光刻机巨头 ASML 今日公布了第三季度财务业绩，净销售额为 67 亿欧元（IT之家备注：当前约 517.91 亿元人民币），净利润为 19 亿欧元（当前约 146.87 亿元人民币），环比都稍有下降，毛利率为 51.9%。▲ 官方图片错误，最后一列是 2023 年第三季度ASML 第三季度季度净预订额为 26 亿欧元（当前约 200.98 亿元人民币），其中 EUV 预订额为 5 亿欧元（当前约 38.65 亿元人民币）。ASML 预计 2023 年第四季度净
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- IT之家 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日发布新闻稿，开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5 nm 芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 不同，并非光刻，而更类似于印刷，没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。这套设备可以应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于 5nm 工艺的芯片。佳能表示会继续改进和发展这套系统，未来有望用于生产 2nm 芯片。IT之家注：纳米印刷（
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- 近期，俄罗斯国际新闻通讯社报道，俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一种工具的成本未知。开发人员介绍，传统光刻技术需要使用专门的掩膜板来获取图像。该装置由专业软件控制，可实现完全自动化，随后的另外一台设备可直接用于形成纳米结构，但也可以制作硅膜，例如
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- 近年来，光刻机行业发展迅猛，成为半导体产业的重要一环。ASML公司作为全球光刻机行业的龙头企业，其对华出口光刻机的态度一直备受关注。然而，最近ASML公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从ASML公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司对华出口限制的影响以及中企自主掌握核心技术等方面进行分析。ASML公司对华出口光刻机态度的变化ASML公司在对华出口光刻机的态度上一直摇摆不定。
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光刻机介绍
国外半导体设备
我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台,
金丝球焊机,电子束蒸发台。
溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸
精密划片机，300毫米清洗机,。
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