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李在镕正式回归,三星半导体是否大举投资引关注

  • 先前李在镕涉入政治关说丑闻的负面影响尚未完全消除,设法恢復各界对三星的信赖也是李在镕须解决的课题。
  • 关键字: 三星  EUV  

EUV、3nm、GAA首次亮相,三星晶圆代工业务强势进军中国市场

  •   为进一步提升在中国市场晶圆代工领域的竞争力,6月14日,三星电子在中国上海召开 “2018三星晶圆代工论坛(Samsung Foundry Forum 2018)”(SFF),这是SFF首次在中国举行,中国半导体市场的影响力可见一斑。  本次论坛上,三星电子晶圆代工事业部战略市场部部长、副社长裵永昌带领主要管理团队,介绍了晶圆代工事业部升级为独立业务部门一年来的发展成果,以及未来发展路线图和服务,首次发布了FinFET、GAA等晶体管构造与EUV曝光技术的使用计划,以及3纳米芯片高端工艺的发展路线图,
  • 关键字: EUV,晶圆  

进军全球5G芯片市场,台积电7纳米EUV工艺联发科M70明年发

  •   联发科高分贝宣布旗下首款5G Modem芯片,代号为曦力(Helio)M70的芯片解决方案将在2019年现身市场的动作,台面上或是为公司将积极进军全球5G芯片市场作热身,但台面下,已决定采用台积电7纳米EUV制程技术设计量产的M70 5G Modem芯片解决方案,却是联发科为卡位台积电最新主力7纳米制程技术产能,同时向苹果(Apple)iPhone订单招手的关键大绝,在高通(Qualcomm)还在三星电子(SAMSUNG)、台积电7纳米制程技术犹疑之间,联发科已先一步表达忠诚,而面对高通、苹果专利讼诉
  • 关键字: 台积电,EUV  

中芯1.2亿美元下单最先进EUV光刻机 如何躲过《瓦森纳协定》的?

  •   据《日经亚洲评论》(Nikkei Asian Review)15日援引消息人士的话称,中国芯片加工企业中芯国际(SMIC)向全球最大的芯片设备制造商——荷兰ASML订购了首台最先进的EUV(极紫外线)光刻机,价值1.2亿美元。目前,业内已达成共识,必须使用EUV光刻机才能使半导体芯片进入7nm,甚至5nm时代。今天,中芯国际方面对观察者网表示,对此事不做评论。  消息称,这台几乎相当于中芯国际去年全部净利润的设备,将于2019年前交付。  ASML发言人对《日经亚洲评论》表示,该企业对包括中国客户在内
  • 关键字: 中芯  EUV  

中芯1.2亿美元下单最先进EUV光刻机,后续还得解决这些问题…

  •   据知情人士透露,中国最大的晶圆代工厂中芯国际已经订购了一台EUV设备,在中美两国贸易紧张的情况下,此举旨在缩小与市场领先者的技术差距,确保关键设备的供应。EUV是当前半导体产业中最先进也最昂贵的芯片制造设备。   中芯国际的首台EUV设备购自荷兰半导体设备制造商ASML,价值1.2亿美元。尽管中芯目前在制造工艺上仍落后于台积电等市场领导者两到三代,此举仍突显了该公司帮助提升中国本土半导体制造技术的雄心壮志,也保证了在最先进的光刻设备方面的供应。目前包括英特尔、三星、台积电等巨头都在购买该设备,以确保
  • 关键字: 中芯  EUV  

2019年换机指南:手机芯片的重磅升级!

  • 种种迹象表明,2018年将是移动处理器、半导体等行业迎来转折的一年,多种技术经历多年沉淀后会在今年完成应用,然后在2019年爆发。
  • 关键字: 台积电  芯片  EUV  

ASML载具供应商家登精密谈中国EUV的发展,面临诸多挑战

  •   载具对于曝光机发挥保护、运送和存储光罩等功能十分重要。家登精密多年来致力于研究曝光机载具,并为全球最大的半导体设备制造商ASML提供载具相关技术。   我们主要研究EUV的配套技术,例如EUV的载具以及EUV的配套光罩,是7nm向5nm进阶的突破口。随着5nm技术的升级,EUV的重要性逐渐凸显出来,而载具的研究也越发紧迫。过去几年,家登精密一直专心做一件事,那就是载具的配套研究。去年,我们的技术产品已经达到国际先进水平,这是一个值得自豪的成绩。未来,7nm工艺逐渐向5nm升级,技术的研究会越来越困难
  • 关键字: ASML  EUV  

三星7nm EUV工厂破土动工:新骁龙将在这里诞生

  • 2017年,三星在半导体事业中的投资达到了260亿美元,创下历史新高,这主要得益于其存储芯片的巨大需求。
  • 关键字: 三星  EUV  

台积电要出售?张忠谋:不慌,价好就卖

  • 在前段时间,台积电创始人张忠谋在即将退休的时候却意外表示,其实中国台湾地区的企业本来就不应该死守,假如价钱够好把台积电卖掉也无妨。
  • 关键字: 台积电  EUV  

日媒:三星最高利润背后的危机感

  •   韩国三星电子2017财年(截至2017年12月)合并营业利润创下历史新高,但其危机感正在加剧。三星1月31日发布的财报显示,营业利润同比增长83%,其中仅半导体业务盈利就增至上年的2.6倍,约合3.5万亿日元,显著依赖市场行情,因此危机感增强。3大主要部门面临着半导体增长放缓等课题。三星能否在新经营团队的领导下,将智能手机和电视机的自主技术培育成新的收益源? 2018财年将成为试金石。   三星整体的营业利润为53.65万亿韩元,时隔4年再创历史新高。其中,半导体部门的服务器和智能手机存储销量坚挺,
  • 关键字: 三星  EUV  

EUV微影前进7nm制程,5nm仍存在挑战

  •   EUV微影技术将在未来几年内导入10奈米(nm)和7nm制程节点。 不过,根据日前在美国加州举办的ISS 2018上所发布的分析显示,实现5nm芯片所需的光阻剂仍存在挑战。   极紫外光(extreme ultraviolet;EUV)微影技术将在未来几年内导入10奈米(nm)和7nm制程节点。 不过,根据日前在美国加州举办的年度产业策略研讨会(Industry Strategy Symposium;ISS 2018)所发布的分析显示,实现5nm芯片所需的光阻剂(photoresist)仍存在挑战。
  • 关键字: EUV  7nm  

4nm大战,三星抢先导入将EUV,研发GAAFET

  •   晶圆代工之战,7nm制程预料由台积电胜出,4nm之战仍在激烈厮杀。 Android Authority报道称,三星电子抢先使用极紫外光(EUV)微影设备,又投入研发能取代「鳍式场效晶体管」(FinFET)的新技术,目前看来似乎较占上风。   Android Authority报导,制程不断微缩,传统微影技术来到极限,无法解决更精密的曝光显像需求,必须改用波长更短的EUV, 才能准确刻蚀电路图。 5nm以下制程,EUV是必备工具。 三星明年生产7nm时,就会率先采用EUV,这有如让三星在6nm以下的竞
  • 关键字: 4nm  EUV  

​没有EUV 半导体强国之梦就「难产」?

  • 一时之间,仿佛EUV成为了衡量中国半导体设备产业发展水平的标杆,没有EUV就无法实现半导体强国之梦?
  • 关键字: EUV  5nm  

EUV或将决定半导体产业方向,通快加紧布局

  •   近日,TRUMPF公司CTO及股东Peter Leibinger在谈到令人着迷的激光创新时重点提及极紫外光刻,也就是我们常说的EUV。他认为,EUV令人着迷的原因是其极富挑战性及对世界的重要影响。   Peter Leibinger   “如果我们无法实现EUV突破,摩尔定律将失效” Peter Leibinger表示:“其影响范围不仅仅是芯片行业,智能手机产业乃至整个电子装备产业都将改变运作方式。”   什么是EUV?   极紫外光刻(Ex
  • 关键字: TRUMPF  EUV  

EUV面临的问题和权衡

  •   新的光刻工具将在5nm需要,但薄膜,阻抗和正常运行时间仍然存在问题。   Momentum正在应用于极紫外(EUV)光刻技术,但这个谈及很久的技术可以用于批量生产之前,仍然有一些主要的挑战要解决。   EUV光刻技术 - 即将在芯片上绘制微小特征的下一代技术 – 原来是预计在2012年左右投产。但是几年过去了,EUV已经遇到了一些延迟,将技术从一个节点推向下一个阶段。   如今,GlobalFoundries,英特尔,三星和台积电相互竞争,将EUV光刻插入到7nm和/或5nm的大容量
  • 关键字: EUV  
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euv介绍

远紫外线光刻技术(extreme ultraviolet )。 市场的殷切需求和技术节点的不断进步仿佛是悬在光刻技术头顶的“利剑”,虽然不至于“随时冷汗涔涔”,但是在某种程度上督促着光刻要永远走在前面。商品化光刻机分辨率从1.0μm到0.1μm的演变过程和光源波长从436nm(G-line),经历356nm(I-line)和248nm(KrF),到如今193nm(ArF)的过程;NA从0. [ 查看详细 ]

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