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传台积电今年将购入18台EUV光刻机,7nm EUV最快3月量产

  • 来自产业链的最新消息称,台积电将包揽ASML今年的30台EUV光刻机中的18台,加上之前采购的几台,台积电有望在今年3月份启动7nm EUV的量产,推动7nm在其2019年晶圆销售中的占比从去年的9%提升到25%。
  • 关键字: 台积电  7nm  EUV  

芯片设计企业该如何选择适合的工艺?

  • 如何向芯片设计企业推荐最合适的工艺,芯片设计企业应该怎么权衡?不久前,在珠海举行的“2018中国集成电路设计业年会(ICCAD)”期间,芯原微电子、Cadence南京子公司南京凯鼎电子科技有限公司、UMC(和舰)公司分别介绍了他们的看法。
  • 关键字: 芯片  EUV  

敞开拥抱中国,荷兰光刻机巨头ASML丝毫不受“大火”影响

  • 荷兰光刻机霸主阿斯麦(ASML)公司公布了2018年第四季度及全年业绩报告,而在当天的声明中,公司CEO彼得·维尼克(Peter Wennink)特别指出,中国对其产品的需求强劲,继续看好对中国的出口。
  • 关键字: ASML  EUV  

英特尔巨资升级美国D1X晶圆厂,上马7nm EUV工艺

  •   12月中旬英特尔宣布扩建美国俄勒冈州以及以色列、爱尔兰的晶圆厂产能。英特尔这次的产能扩张计划有对应14nm的,但是并不是应急用的,也有面向未来工艺的,其中俄勒冈州的D1X晶圆厂第三期工程就是其中之一,未来英特尔的7nm EUV处理器会在这里生产。  2018年下半年英特尔忽然出现了14nm产能不足的危机,这件事已经影响了CPU、主板甚至整个PC行业的增长,官方也承认了14nm产能供应短缺,并表示已经增加了额外的15亿美元支出扩建产能。12月中旬英特尔宣布扩建美国俄勒冈州以及以色列、爱尔兰的晶圆厂产
  • 关键字: 英特尔  晶圆  EUV  

EUV需求巨大!ASML最新财报显示今年将出货30台

  •   荷兰当地时间1月23日,ASML发布了去(2018)年第四季度及全年的业绩报告。  报告指出,去年第四季度净销售额为31亿欧元,净收入为7.88亿欧元,毛利率为44.3%。  具体来看,ASML指出,DUV光刻业务中,存储客户的需求使得TWINSCAN NXT:2000i保持着持续增长。同时ASML也提高了该产品的可靠性,据了解,上一代产品需要六个月才能达到高可靠性,而该产品仅用了两个月。  去年全年,ASML净销售额为109亿欧元,净收入为26亿欧元。  值得注意的是,ASML已与尼康签署了谅解
  • 关键字: EUV  ASML  

全面起底ASML的EUV光刻技术

  •   用于高端逻辑半导体量产的EUV(Extreme Ultra-Violet,极紫外线光刻)曝光技术的未来蓝图逐渐“步入”我们的视野,从7nm阶段的技术节点到今年(2019年,也是从今年开始),每2年~3年一个阶段向新的技术节点发展。    高端逻辑半导体的技术节点和对应的EUV曝光技术的蓝图。  也就是说,在EUV曝光技术的开发比较顺利的情况下,5nm的量产日程时间会大约在2021年,3nm的量产时间大约在2023年。关于更先进的2nm的技术节点,还处于模糊阶段,据预测,其量产时间最快也是在2026
  • 关键字: ASML  EUV  

Imec与ASML联手,EUV成主流技术工具

  •   日前,有消息称,比利时研究机构Imec和微影设备制造商ASML计划成立一座联合研究实验室,共同探索在后3nm逻辑节点的奈米级元件制造蓝图。此次双方这项合作是一项为期五年计划的一部份,分为两个阶段:  首先是开发并加速极紫外光(EUV)微影技术导入量产,包括最新的EUV设备准备就绪。  其次将共同探索下一代高数值孔径(NA)的EUV微影技术潜力,以便能够制造出更小型的奈米级元件,从而推动3nm以后的半导体微缩。  极紫外光(EUV)微影技术  EUV光刻也叫极紫外光刻,它以波长为10-14 nm的极紫外
  • 关键字: ASML  EUV  

三星促使EUV制程技术走红,遵循摩尔定律方向发展

  •   继联电在2017年进行高阶主管大改组,并宣布未来经营策略将着重在成熟制程之后,格芯也在新执行长Tom Caulfield就任半年多后,于日前宣布无限期暂缓7nm制程研发,并将资源转而投入在相对成熟的制程服务上。  引入EUV工艺是半导体7nm工艺的关键转折点  众所周知,目前半导体领域,7nm工艺是一个重要节点。而7nm工艺是半导体制造工艺引入EUV技术的关键转折,这是摩尔定律可以延续到5nm以下的关键,引入EUV工艺可以大幅提升性能,缩减曝光步骤、光罩数量等制造过程,节省时间和成本。  不过引入EU
  • 关键字: 三星  EUV  

5nm技术指日可待,EUV技术有重磅突破

  •   全球一号代工厂台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破,一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。今年4月开始,台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产,苹果A12、华为麒麟980、高通“骁龙855”、AMD下代锐龙/霄龙等处理器都正在或将会使用它制造,但仍在使用传统的深紫外光刻(DUV)技术。  而接下来的第二代7nm工艺(CLNFF+/N7+),台积电将首次应用EUV,不过仅限四个非关键层,以降低风险、加速投产,也借
  • 关键字: 5nm  EUV  

从7nm到3nm GAA,三星为何激进地采用EUV?

  • 半导体业界为EUV已经投入了相当庞大的研发费用,因此也不难理解他们急于收回投资。虽然目前还不清楚EUV是否已经100%准备就绪,但是三星已经迈出了实现大规模量产的第一步。
  • 关键字: 三星  EUV  3nm   

拚不过对手 英特尔放弃抢推EUV?

  •   引领技术开发的少数芯片制造商认定,极紫外光(EUV)微影技术将在明年使得半导体元件的电晶体密度更进一步向物理极限推进,但才刚失去全球半导体产业龙头宝座的英特尔(Intel),似乎放弃了继续努力在采用EUV的脚步上领先;该公司在1990年代末期曾是第一批开始发展EUV的IC厂商。  曾是电子工程师的市场研究机构Bernstein分析师Mark Li表示,英特尔不会在短时间内导入EUV,该公司仍在克服量产10纳米制程的困难,因此其7纳米制程还得上好几年,何时会用上EUV更是个大问题。  在此同时,三星(S
  • 关键字: 英特尔  EUV  

Entegris EUV 1010光罩盒展现极低的缺陷率,已获ASML认证

  •   业界领先的特种化学及先进材料解决方案的公司Entegris(纳斯达克:ENTG)日前发布了下一代EUV 1010光罩盒,用于以极紫外(EUV)光刻技术进行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是与全球最大的芯片制造设备制造商之一的ASML密切合作而开发的,已在全球率先获得ASML的认证,用于NXE:3400B等产品。  随着半导体行业开始更多地使用EUV光刻技术进行先进技术制程的大批量制造(HVM),对EUV光罩无缺陷的要求比以往任何时候都要严格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
  • 关键字: Entegris  EUV  ASML  

李在镕正式回归,三星半导体是否大举投资引关注

  • 先前李在镕涉入政治关说丑闻的负面影响尚未完全消除,设法恢復各界对三星的信赖也是李在镕须解决的课题。
  • 关键字: 三星  EUV  

EUV、3nm、GAA首次亮相,三星晶圆代工业务强势进军中国市场

  •   为进一步提升在中国市场晶圆代工领域的竞争力,6月14日,三星电子在中国上海召开 “2018三星晶圆代工论坛(Samsung Foundry Forum 2018)”(SFF),这是SFF首次在中国举行,中国半导体市场的影响力可见一斑。  本次论坛上,三星电子晶圆代工事业部战略市场部部长、副社长裵永昌带领主要管理团队,介绍了晶圆代工事业部升级为独立业务部门一年来的发展成果,以及未来发展路线图和服务,首次发布了FinFET、GAA等晶体管构造与EUV曝光技术的使用计划,以及3纳米芯片高端工艺的发展路线图,
  • 关键字: EUV,晶圆  

进军全球5G芯片市场,台积电7纳米EUV工艺联发科M70明年发

  •   联发科高分贝宣布旗下首款5G Modem芯片,代号为曦力(Helio)M70的芯片解决方案将在2019年现身市场的动作,台面上或是为公司将积极进军全球5G芯片市场作热身,但台面下,已决定采用台积电7纳米EUV制程技术设计量产的M70 5G Modem芯片解决方案,却是联发科为卡位台积电最新主力7纳米制程技术产能,同时向苹果(Apple)iPhone订单招手的关键大绝,在高通(Qualcomm)还在三星电子(SAMSUNG)、台积电7纳米制程技术犹疑之间,联发科已先一步表达忠诚,而面对高通、苹果专利讼诉
  • 关键字: 台积电,EUV  
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euv介绍

远紫外线光刻技术(extreme ultraviolet )。 市场的殷切需求和技术节点的不断进步仿佛是悬在光刻技术头顶的“利剑”,虽然不至于“随时冷汗涔涔”,但是在某种程度上督促着光刻要永远走在前面。商品化光刻机分辨率从1.0μm到0.1μm的演变过程和光源波长从436nm(G-line),经历356nm(I-line)和248nm(KrF),到如今193nm(ArF)的过程;NA从0. [ 查看详细 ]

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