首页  资讯  商机   下载  拆解   高校  招聘   杂志  会展  EETV  百科   问答  电路图  工程师手册   Datasheet  100例   活动中心  E周刊阅读   样片申请
EEPW首页 >> 主题列表 >> euv

euv 文章

三星新建5nm晶圆厂:先进EUV技术 2021年投产

  • 随着时间迈入2020年中,以台积电和三星为代表的芯片半导体也从7nm逐步向5nm进发,实际上麒麟1020和苹果A14芯片就是基于台积电5nm工艺,表现相较7nm将会更上一层楼。很明显在7nm时代,三星是落后于台积电的,不过这家巨头似乎想在5nm时代弯道超车,近日据媒体报道,三星宣布将于汉城南部的平泽市建造全新的5nm晶圆厂。该工厂是三星在韩国国内的第六条晶圆代工产线,将应用先进的极紫外光微影(ExtremeUltravioletlithography,EUV)制程技术,拿7nmEUV工艺对比,三星5nmE
  • 关键字: 三星  5nm  EUV  

EUV光刻机断货 台积电5nm工艺抢三星头彩:A14/麒麟1020首发

  • 台积电上周发布了3月及Q1季度财报,营收同比大涨了42%,淡季不淡。不过接下来的日子半导体行业可能不太好过了,ASML的EUV光刻机已经断货,要延期交付,好在台积电今年已经在5nm工艺上抢先三星了。根据ASML之前的报告,3月底他们下调了1季度营收预期到24-25亿美元,差不多减少了1/4左右的营收,毛利率也下滑到了45-46%之间。此外,ASML的EUV光刻机也因为种种原因断货了,虽然订单没有取消,但是交付要延期了,三星、台积电今年都不太容易快速扩张EUV产能。不过台积电在这次危机中更有优势地位,他们包
  • 关键字: EUV  台积电5nm  

三星首次将EUV技术应用于DRAM生产

  • 据ZDnet报道,三星宣布,已成功将EUV技术应用于DRAM的生产中。
  • 关键字: 三星  EUV  DRAM  

三星率先为DRAM芯片导入EUV:明年将用于DDR5/LPDDR5大规模量产

  • 当前在芯片制造中最先进的EUV(极紫外光刻)工艺被三星率先用到了DRAM内存颗粒的生产中。这家韩国巨头今日宣布,已经出货100万第一代10nm EUV级(D1x)DDR4 DRAM模组,并完成全球客户评估,这为今后高端PC、手机、企业级服务器等应用领域开启新大门。得益于EUV技术,可以在精度更高的光刻中减少多次图案化的重复步骤,并进一步提升产能。三星表示,将从第四代10nm级(D1a)DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV,明年基于D1a大规模量产DDR5和LPDDR5内存芯片,预计会使12
  • 关键字: 三星  DRAM  EUV  

引入EUV技术的6nm,才是真正的6nm

  • 只有引入EUV技术的6nm才是真正的6nm,而这项技术也将伴随未来可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路
  • 关键字: EUV  6nm  光刻机  

泛林集团发布应用于EUV光刻的技术突破

  • 近日,泛林集团发布了一项用于EUV光刻图形化的干膜光刻胶技术。泛林集团研发的这项全新的干膜光刻胶技术,结合了泛林集团在沉积、刻蚀工艺上的领导地位及其与阿斯麦 (ASML) 和比利时微电子研究中心 (imec) 战略合作的成果,它将有助于提高EUV光刻的分辨率、生产率和良率。泛林集团的干膜光刻胶解决方案提供了显著的EUV光敏性和分辨率优势,从而优化了单次EUV光刻晶圆的总成本。由于领先的芯片制造商已开始将EUV光刻系统应用于大规模量产,进一步提升生产率和分辨率将帮助他们以更合理
  • 关键字: EUV  光刻  

泛林集团在提高EUV光刻分辨率、生产率和良率取得技术突破

  • 泛林集团与阿斯麦 (ASML) 和比利时微电子研究中心 (imec) 共同研发的全新干膜光刻胶技术将有助于提高EUV光刻的分辨率、生产率和良率。
  • 关键字: 泛林  EUV  干膜光刻胶技术  

2021年ASML将推下一代EUV光刻机 面向2nm、1nm工艺

  • 作为全球唯一能生产EUV光刻机的公司,荷兰ASML公司去年出售了26台EUV光刻机,主要用于台积电、三星的7nm及今年开始量产的5nm工艺,预计今年出货35台EUV光刻机。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时,支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的产能也从之前的125WPH(每小时处理晶圆数)提升到了175WPH。不论NXE:3400B还是NXE:
  • 关键字: ASML  EUV  

麒麟820处理器要来,6纳米+EUV工艺,手有技术气自华!

  • hello,大家好,欢迎来到阿洛伊科技华为将于2月24日21:00举行在线新品发布会。在疫情爆发期间,手机制造商选择在网上举行发布会。据悉,此次发布会的主题是“共同未来”。从海报上看,本次大会将涵盖多个类别,包括折叠手机、笔记本电脑、平板电脑、智能手表、智能家居等,不过,据媒体透露,本次大会将会有一个惊喜,即将发布最新的旗舰SOC麒麟820处理器。与上一代麒麟810相比,该处理器有哪些升级?让我们看看。麒麟820处理器将采用cortex A76架构。不采用最新的cortex a77架构的主要原因是,ARM
  • 关键字: 麒麟820  6纳米  EUV  

台积电遇强大对手!6nm、7nm EUV开启全面量产,中国仍需努力!

  • 告别了诺基亚、HTC、黑莓等手机,目前的智能手机阵营也就是安卓和苹果,而智能手机俨然就是人们的第二个精神生命,手机不离手已经成为了一种现象,但是对于智能手机来说,除了软件以外,最重要最核心的就是手机芯片了!但是在全世界来说,能够生产高端芯片的厂商少之又少,主要还是因为纳米级制程工艺的技术壁垒,谁能够率先突破制程工艺,谁都将会在半导体芯片上拔得头筹,对于中国来说,这一块仍然非常的滞后,当然了如果说台积电也是中国的话,那么中国其实还是领先的!但是毕竟台积电一直以来是中国台湾企业,但其实其也一直受限于美国的政策
  • 关键字: 台积电  EUV  

面向3nm及以下工艺,ASML新一代EUV光刻机曝光

  • 很快,台积电和三星的5nm工艺即将量产,与此同时,台积电和三星的3nm工艺也在持续的研发当中。而对于5nm及以下工艺来说,都必须依靠EUV(极紫外)光刻机才能实现。而目前全球只有一家厂商能够供应EUV光刻机,那就是荷兰的ASML。很快,台积电和三星的5nm工艺即将量产,与此同时,台积电和三星的3nm工艺也在持续的研发当中。而对于5nm及以下工艺来说,都必须依靠EUV(极紫外)光刻机才能实现。而目前全球只有一家厂商能够供应EUV光刻机,那就是荷兰的ASML。目前ASML出货的EUV光刻机主要是NXE:340
  • 关键字: 3nm  EUV  

三星最先进EUV产线投用:7nm产能今年增加两倍

  • 当前,有实力围绕10nm以下先进制程较量的厂商仅剩下Intel、台积电和三星三家。
  • 关键字: 三星  EUV  7nm  

EUV市场供不应求,ASML或取代应材登全球半导体设备龙头

  • 根据外媒报导,已经多年蝉联全球半导体设备龙头的美商应材公司(Applied Materials),2019年可能将其龙头宝座,让给以生产半导体制造过程中不可或缺曝光机的荷兰ASML,原因是受惠即紫外光刻设备(EUV)的市场需求大增,进一步拉抬了ASML的市占率表现。
  • 关键字: EUV  ASML  半导体设备  

ASML第三季接23台EUV系统订单

  • ASML近日发布2019年第3季财报。根据财报显示,ASML在2019年第3季销售净额(net sales)为30亿欧元,净收入(net income)为6.27亿欧元,毛利率(gross margin)43.7%。
  • 关键字: ASML  EUV  营运  

三星公布全球首颗 7nm EUV 芯片——Exynos 9825

共92条 1/7 1 2 3 4 5 6 7 »

euv介绍

远紫外线光刻技术(extreme ultraviolet )。 市场的殷切需求和技术节点的不断进步仿佛是悬在光刻技术头顶的“利剑”,虽然不至于“随时冷汗涔涔”,但是在某种程度上督促着光刻要永远走在前面。商品化光刻机分辨率从1.0μm到0.1μm的演变过程和光源波长从436nm(G-line),经历356nm(I-line)和248nm(KrF),到如今193nm(ArF)的过程;NA从0. [ 查看详细 ]

热门主题

FPGA    DSP    MCU    示波器    步进电机    Zigbee    LabVIEW    Arduino    RFID    NFC    STM32    Protel    GPS    MSP430    Multisim    滤波器    CAN总线    开关电源    单片机    PCB    USB    ARM    CPLD    连接器    MEMS    CMOS    MIPS    EMC    EDA    ROM    陀螺仪    VHDL    比较器    Verilog    稳压电源    RAM    AVR    传感器    可控硅    IGBT    嵌入式开发    逆变器    Quartus    RS-232    Cyclone    电位器    电机控制    蓝牙    PLC    PWM    汽车电子    转换器    电源管理    信号放大器    树莓派    linux   
关于我们 - 广告服务 - 企业会员服务 - 网站地图 - 联系我们 - 征稿 - 友情链接 - 手机EEPW
Copyright ©2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
备案 京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案:1101082052    京公网安备11010802012473