新闻中心

EEPW首页 > 元件/连接器 > 业界动态 > SEMI发布半导体制造5项新标准

SEMI发布半导体制造5项新标准

作者:时间:2008-10-09来源:EDN收藏

  日前发布五项新的技术。这些标准由来自设备与材料供应商、器件制造商以及其他参与国际标准项目厂商的技术专家们开发制定,可通过购买或在网站上下载获得。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/88519.htm

  标准每三年发布一次。这些新的专利作为2008年11月版的一部分,加入到过去35年中SEMI已发布的775个标准中。

  “这些新的SEMI标准是基于产业专家们的合作与共识而制订的。”SEMI国际标准主管James Amano说道,“这些标准的执行将帮助厂商应对日益增加的制造挑战,改善收益率,并实现设备工艺的全球化兼容。”

  五项标准分别是:

  SEMI E139.3

  XML/SOAP Binding for Recipe and Parameter Management

  (配方和参数管理的XML/SOAP结合)

  SEMI G87

  Specification for Plastic Tape Frame for 300 mm Wafer

  (300mm塑料带框规格)

  SEMI M73

  Test Methods for Extracting Relevant Characteristics from Measured Wafer Edge Profiles

  (由标准边缘提取相关特征的测试方法)

  SEMI M74

  Specification for 450 mm Diameter Mechanical Handling Polished Wafers

  (450mm抛光机械搬运规格)

  SEMI T20

  System Architecture for Preventing/Detecting Semiconductor Counterfeit Products

  (半导体仿冒品防止/探测系统架构)

 



关键词: CD-ROM SEMI 晶圆

评论


相关推荐

技术专区

关闭