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ASML出货超过100台EUV光刻机 新制程时代来临

作者:芯研所时间:2021-09-18来源:ZOL收藏

芯研所消息,全球半导体的缺货,进一步激发了上游半导体设备厂商的产能,据外媒报道截至第二季度, EUV设备出货总量达到102台,随着需求量的提高和客户群的扩大,预计2年内累计供应量将增加2倍以上,标志着EUV时代正式拉开帷幕。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/202109/428342.htm

据统计,过去四个季度(2020年第三季度-2021年第二季度), EUV设备出货总计40台,较之前四个季度(2019年第三季度-2020年第二季度)增长了66%。今年的出货目标是40台左右,下半年将供应25台左右。

ASML出货超过100台EUV光刻机 新制程时代来临

ASML扩大EUV设备供应响应了半导体制造业实现超微电路层的需求。尽管每台设备的价格达到1.71亿美元,但由于其卓越的工艺成本和省时效果,可以抵消设备采购的成本。业内人士指出,通过EUV可以降低设备成本和工艺成本,因此,在微加工领域引进EUV设备的企业越来越多。

根据ASML的说法,5-7nm逻辑半导体(以每月45,000颗晶圆为基准)每个EUV层需要一台EUV设备,16nm及以下节点DRAM(以每月100,000颗晶圆为基准)每个EUV层则需要1.5-2台设备。三星电子计划,到今年下半年为止,将14nm DDR5 DRAM的EUV应用层数从1层增加到5层,SK海力士也计划增加EUV应用层数,因此,预计EUV设备的需求将进一步增加。

除了EUV层的增加,EUV设备的客户群也在逐渐扩大。继2018年三星电子首次引进7nm制程的EUV设备后,台积电和SK海力士也加入了EUV竞争。美国的美光和英特尔也在推进EUV设备的引进,预计市场规模将进一步扩大。



关键词: ASML EUV光刻机

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