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euv光刻机 文章 进入euv光刻机技术社区

台积电计划关闭部分EUV光刻机:先进工艺过剩

  • EUV光刻机是半导体制造中的核心设备,只有ASML公司才能生产,单台售价约10亿人民币,之前三星、台积电等公司还要抢着买,然而今年半导体形势已经变了,EUV光刻机反而因为耗电太多,台积电计划关闭省电。来自产业链的消息人士手机晶片达人的消息称,由于先进制程产能利用率开始下滑,而且评估之后下滑时间会持续一段周期,台积电计划从年底开始,将部分EUV 设备关机,以节省EUV设备巨大的耗电支出。据了解台积电目前拥有大约80台EUV光刻机,主要用于7nm、5nm及以下的先进工艺,今年9月份还会量产3nm工艺,都需要E
  • 关键字: EUV光刻机  台积电  

单价26亿元 ASML下一代EUV光刻机启动:核心部件到货

  • 荷兰ASML公司今天发布了2022年第二季度财报,当季净销售额为54.31亿欧元,好于市场预期的52.6亿欧元,上年同期为40.20亿欧元,同比增长35%。毛利润为26.65亿欧元,上一季度为17.31亿欧元,上年同期为20.45亿欧元;毛利率为49.1%,上一季度为49.0%。净利润为14.11亿欧元,上年同期为10.38亿欧元,同比增长36%。Q2新增订单金额为84.61亿欧元,其中包括54亿欧元的EUV订单,较上一季度的新增订单金额69.77亿欧元环比增长21%。本季度中,ASML公司出货了12台E
  • 关键字: ASML  EUV光刻机  芯片  

台积电、Intel、三星狂买ASML EUV光刻机

  • 台积电在北美技术论坛上公布了新的制程路线图,定于2025年量产2nm工艺,其采用Nanosheet(纳米片电晶体)的微观结构,取代FinFET。期间,台积电甚至规划了5种3nm制程,包括N3、N3E、N3P、N3S和N3X,要在2025年前将成熟和专业化制程的产能提高50%,包括兴建更多的晶圆厂。显然,作为产能提升以及兴建晶圆厂的关键核心设备,EUV光刻机少不了要采购一大批。台积电表示,计划在2024年引入ASML的新一代EUV极紫外光刻机。此前,Intel曾说自己是第一个订购ASML下一代EUV光刻机的
  • 关键字: 台积电  Intel  三星  ASML  EUV光刻机  

TrendForce:ASML工厂火灾 影响EUV光刻机交期

  • ASML位于德国柏林工厂一处,于1月3日发生火警,该企业主要为晶圆代工及内存生产,所需的关键设备机台,包含EUV与DUV之最大供货商。根据TrendForce的消息,占地32,000平方米的柏林厂区中,约200平方米厂区受火灾影响。该厂区主要制造光刻机中,所需的光学相关零组件,例如:晶圆台、光罩吸盘和反射镜,其中用以固定光罩的光罩吸盘,处于紧缺状态。目前该厂零组件以供应EUV机台较多,且以晶圆代工的需求占多数。若届时因火灾而造成零组件交期有所延后,不排除ASML将优先分配主要的产出支持晶圆代工订单的可能性
  • 关键字: TrendForce  ASML  EUV光刻机  

ASML出货超过100台EUV光刻机 新制程时代来临

  • 芯研所消息,全球半导体的缺货,进一步激发了上游半导体设备厂商的产能,据外媒报道截至第二季度,ASML EUV设备出货总量达到102台,随着需求量的提高和客户群的扩大,预计2年内累计供应量将增加2倍以上,标志着EUV时代正式拉开帷幕。据统计,过去四个季度(2020年第三季度-2021年第二季度),ASML EUV设备出货总计40台,较之前四个季度(2019年第三季度-2020年第二季度)增长了66%。ASML今年的出货目标是40台左右,下半年将供应25台左右。ASML扩大EUV设备供应响应了半导体制造业实现
  • 关键字: ASML  EUV光刻机  

EUV光刻机将如何发展?

  • AI、5G应用推动芯片微缩化,要实现5nm、3nm等先进制程,意味着需要更新颖的技术支援以进行加工制造,半导体设备商遂陆续推出新一代方案。 AI、5G应用推动晶片微缩化,要实现5nm、3nm等先进制程,意味着需要更新颖的技术支援以进行加工制造,为此,艾司摩尔(ASML)持续强化极紫外光(EUV)微影系统效能。艾司摩尔(ASML)资深市场策略总监Boudewijn Sluijk表示,VR/AR、自动驾驶、5G、大数据及AI等,持续推动半导体产业发展,为满足各式应用、资料传输,以及演算法需求,芯片效
  • 关键字: EUV光刻机  

EUV光刻机需求强劲:ASML超应用材料成全球第一大半导体设备企业

  • 用了将近30年的时间,荷兰光刻机巨头ASML(阿斯麦)终于要超过Applied Materials(美国应用材料公司),成为全球最大的半导体设备企业。
  • 关键字: EUV光刻机  ASML  半导体  

ASML单价近一亿美元EUV光刻机订单已达10台

  •   2010年浸润式微米光刻机台设备(Immersion Scanner)大缺货,形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险,随着缺货问题解决,ASML针对20纳米工艺,推出深紫外光(EUV)机台,目前已有10台订单在手,预计2012年将正式交货;不过,对于资金拮据的DRAM厂,1台要价近1亿美元的EUV机台,将会是更大的资金挑战,目前仅瑞晶下单订购1台,藉以确保20纳米工艺的参赛权。 
  • 关键字: ASML  EUV光刻机  
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