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euv光刻机 文章

EUV光刻机将如何发展?

  • AI、5G应用推动芯片微缩化,要实现5nm、3nm等先进制程,意味着需要更新颖的技术支援以进行加工制造,半导体设备商遂陆续推出新一代方案。 AI、5G应用推动晶片微缩化,要实现5nm、3nm等先进制程,意味着需要更新颖的技术支援以进行加工制造,为此,艾司摩尔(ASML)持续强化极紫外光(EUV)微影系统效能。艾司摩尔(ASML)资深市场策略总监Boudewijn Sluijk表示,VR/AR、自动驾驶、5G、大数据及AI等,持续推动半导体产业发展,为满足各式应用、资料传输,以及演算法需求,芯片效
  • 关键字: EUV光刻机  

EUV光刻机需求强劲:ASML超应用材料成全球第一大半导体设备企业

  • 用了将近30年的时间,荷兰光刻机巨头ASML(阿斯麦)终于要超过Applied Materials(美国应用材料公司),成为全球最大的半导体设备企业。
  • 关键字: EUV光刻机  ASML  半导体  

ASML单价近一亿美元EUV光刻机订单已达10台

  •   2010年浸润式微米光刻机台设备(Immersion Scanner)大缺货,形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险,随着缺货问题解决,ASML针对20纳米工艺,推出深紫外光(EUV)机台,目前已有10台订单在手,预计2012年将正式交货;不过,对于资金拮据的DRAM厂,1台要价近1亿美元的EUV机台,将会是更大的资金挑战,目前仅瑞晶下单订购1台,藉以确保20纳米工艺的参赛权。 
  • 关键字: ASML  EUV光刻机  
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euv光刻机介绍

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