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台积电响应28nm制程良率问题

—— 称台积电的工程师总能迅速迎接挑战
作者:时间:2012-02-07来源:半导体制造收藏

  (TSMC)日前响应了稍早前分析师指称该公司 CMOS制程存在着良率问题的说法。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/128609.htm

  欧洲公司总裁 Maria Marced 重申她与其他高层之前所强调的:减少节点的缺陷密度一直在掌握中,以量产进度来看甚至快于40/45nm制程技术。

  Marced承认,每一代制程节点在推出时都会有些问题,但台积电的工程师总能迅速迎接挑战。“所有事情都变得更加困难。我们已经在40nm学到很多了。我们的工程团队也不断针对各个设计定案(tape-out)进行努力,减少缺陷密度并提高良率,”她说。“到了20nm节点,可预见这将更加困难,但我们仍然看好未来的技术发展趋势。”

  Marced强调其乐观是来自于台积电目前已经有 36款IC进入量产,另外还有132个设计定案在进行中。“的发展要比之前的40/45nm快上三倍,”她说。

  2011年第四季,28nm晶圆生产约占台积电营收的2%,销售额约7,000万美元,Marced说。预计该比重在2012年将上升到5%,销售额则预期提高到1.7亿美元。而针对2012年度,台积电预计28nm晶圆生产占总营收比重将可达10%。

  一个被分析师指称遭遇良率问题的制程节点,能够在2季之内将销售额从7,000万美元提高到1.7亿美元,成绩应该“不算太坏”,Marced说。



关键词: 台积电 28nm

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