限制ASML对华设备和技术输出的新规又来了

据彭博社报道，ASML 与中国大陆客户合作正面临更严格的限制。

知情人士称，荷兰出口管制规则将禁止 ASML 在未经政府批准的情况下为受控设备进行维护、修理和提供备件。这些限制与该国政府 6 月份发布的新规定有关，该规定禁止 ASML 从 9 月份开始在没有许可证的情况下向中国大陆运送浸入式深紫外光刻机。

知情人士表示，除了荷兰的管制外，美国预计还将禁止 ASML 在未经华盛顿批准的情况下向大约 6 家中国大陆晶圆厂出售更旧的 DUV 光刻设备，拜登政府瞄准的中国晶圆厂之一是由中芯国际运营的一家工厂。

这些双重限制是在乔·拜登总统政府去年对中国大陆实施全面出口限制的基础上实施的，并有可能随着时间的推移削弱中国大陆半导体公司的能力。中国政府对技术限制做出了强烈反应，向世界贸易组织提出申诉。

SemiAnalysis 研究小组创始人迪伦·帕特尔 (Dylan Patel) 表示：「荷兰的规定是官方的立场，因为荷兰不希望中国大陆能够生产最先进的半导体产品。如果无法获得这些机器，中国芯片公司将在全球先进逻辑和存储芯片市场处于劣势。」

「我预计新的限制将严重影响中国大陆芯片公司的未来计划，」帕特尔说。「他们可能会被迫推迟或取消某些未来尖端工艺技术的开发。」

ASML 从未能够向中国大陆出售其最先进的芯片制造机器，这些机器使用极紫外（EUV）光刻技术，这是因为美国及其盟友担心这些技术可能被用来提升中国的军事能力。

知情人士称，拜登政府将通过援引《外国直接产品规则》对 ASML 实施新的限制，该规则允许 ASML 限制外国设备供应商的销售，只要这些供应商的产品含有哪怕少量的美国零部件。

此前，唐纳德·特朗普政府采取了 FDPR 措施，以防止使用任何美国科技公司的芯片制造商未经批准向华为技术有限公司提供制造服务。此举基本上削弱了这家中国电信巨头曾经利润丰厚的智能手机业务。

其中一位人士表示，美国还可能禁止 ASML 为 6 家目标晶圆厂安装的未经许可的受限机器提供维护和维修服务以及提供备件。知情人士表示，目前尚不清楚美国何时会实施这些额外限制。

知情人士称，虽然荷兰早些时候抵制美国对 ASML 实施域外控制，但拜登政府和荷兰首相马克·吕特 (Mark Rutte) 就额外限制的国家安全必要性达成了谅解。预计荷兰新法规不会受到该国联合政府最近垮台的影响。

荷兰政府、美国商务部和 ASML 的代表拒绝置评。另外，ASML 本周表示，由于芯片行业低迷以及 2022 年的大规模招聘活动，该公司计划今年放慢招聘速度。

除了阻止中国大陆升级其半导体技术之外，美国和荷兰的新管制措施还可能会随着时间的推移减少中国大陆企业相对先进芯片的现有产能。该国用于修理或更换损坏的外国设备的国内替代品有限。ASML 几乎垄断了全球制造先进和传统芯片所需的关键光刻设备。

拜登政府在 2022 年 10 月份对美国芯片制造的维护和维修实施了与原来的出口管制规则类似的控制，这些限制影响了 ASML 的美国同行，包括应用材料公司。

支持 7nm 高端 DUV 光刻机仍可出口

6 月底，荷兰政府宣布了限制某些先进半导体设备出口的新规定，这些规定将于 9 月 1 日生效。具体而言，荷兰政府将要求先进芯片制造设备的公司在出口之前须获得许可证。

ASML 在其官网发表声明称，该公司未来出口其先进的浸润式 DUV 光刻系统（即 TWINSCAN NXT:2000i 及后续浸润式系统）时，将需要向荷兰政府申请出口许可证。

ASML 强调，该公司的 EUV 系统的销售此前已经受到限制。

据 ASML 官网提供的信息，该公司目前在售的主流浸没式 DUV 光刻机产品共有三款，分别是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

ASML 3 月曾表示，预计 2000i 和 2050i 这两款产品会受到荷兰政府的出口限制。再对比阿斯麦今天的回应来看，TWINSCAN NXT:1980Di 这款浸润式 DUV 光刻机并不在限制范围内。

ASML 官网上关于这一台 TWINSCAN NXT:1980Di 的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于 38nm（可以支持到 7nm 左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。

理论上 NXT:1980Di 依然可以达到 7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产 14nm 及以上工艺的芯片，很少去生产 14nm 以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。