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国产ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺

作者:时间:2020-05-27来源:SEMI大半导体产业网收藏

作为卡脖子的技术之一,很多人只知道光刻机,却不知道光刻胶的重要性,这个市场也是被日本及美国公司垄断,TOP5厂商占了全球85%的份额。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/202005/413553.htm

国产光刻胶此前只能用于低端工艺生产线中,能做到G 线(436nm)、I 线 (365nm)水平,目前主要在用的还是靠进口,EUV光刻胶目前还没有公司能生产,基本上都控制在日本公司手中。

不过EUV光刻胶也不是急需的,因为国内目前还没有EUV工艺量产,193nm的更加重要,目前国内有多家公司正在攻关中,这种光刻胶可以用于28nm到工艺的先进工艺。

近日,南大光电在互动平台表示,公司的正在按计划进行客户测试,这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破,从研发开始走向生产。

根据南大光电公司之前的 消息,公司于2017年开始研发“193nm 光刻胶项目”,已获得国家“02 专项”的相关项目立项,公司计划通过3年的建设、投产及实现销售,达到年产25吨 193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模,产品将满足集成电路行业需求标准。



关键词: ArF光刻胶 7nm 半导体

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