新闻中心

EEPW首页 > 业界动态 > EUV光刻机需求强劲:ASML超应用材料成全球第一大半导体设备企业

EUV光刻机需求强劲:ASML超应用材料成全球第一大半导体设备企业

作者:时间:2019-11-27来源:SEMI大半导体产业网收藏

用了将近30年的时间,荷兰光刻机巨头(阿斯麦)终于要超过Applied Materials(美国应用材料公司),成为全球最大的设备企业。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/201911/407542.htm

TIN调研公司主席Robert Castellano称,过去三年,应用材料在晶圆前端领域(WFE)的份额一直在往下掉。相反的是,却被几大晶圆巨擘抢破头。

研究称,应用材料去年在设备市场的份额是的19.2%,今年虽然微增到19.4%,但对手却从去年的18%拔高到了21.6%。

Castellano说:“基于2020年整个WFE市场5%的温和复苏和制造商计划的资本支出,将在2020年将其市场份额提高到22.8%,而应用材料将保持19.3%的份额。”

今年四季度,ASML预计交付8台,平均每台价格达到了1.2亿欧元,折合人民币9.3亿元,堪称人类最昂贵的设备了。 



评论


相关推荐

技术专区

关闭