EUV需求看俏 ASML频传捷报

　　全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦 (ASML) 公布最新2017第二季财报。ASML表示，由于不论逻辑芯片和DRAM客户都积极准备将EUV导入芯片量产阶段，EUV光刻机目前第二季已累积27台订单总计28亿欧元。

　　ASML 第二季营收净额 (net sales)21亿欧元，毛利率(gross margin)为45%。在第二季新增8台EUV系统订单，让EUV光刻系统的未出货订单累积到27台，总值高达28亿欧元。

　　ASML预估2017第三季营收净额(net sales)约为22亿欧元，毛利率(gross margin)约为43%。因为市场需求和第二季的强劲财务表现，ASML预估2017全年营收增长可达25%。

　　ASML总裁暨执行长温彼得Peter Wennink表示，ASML今年的主要营收贡献来自内存芯片客户，尤其在DRAM市场需求的驱动下，这部分的营收预估将比去年增长50%，而来自逻辑芯片方面的营收也可望增长15%。

　　此外，ASML近年来积极推行系统升级业务，该部分的营收贡献可望在今年成长 20%。Peter Wennink指出，综合市场和各业务领域“捷报”，认为这一成长动能将可延续到2018年。

　　在产品线方面，深紫外光( DUV )光刻推出最新浸润式光刻系统TWINSCAN NXT: 2000i，具备多项硬件技术创新，让客户得以在7纳米和5纳米制程节点上，同时用浸润式光刻和EUV系统进行量产，并达到2.5纳米的迭对精度( on-product overlay )。

　　另一方面，3D NAND客户对于KrF干式光刻系统的需求持续升高，目前 TWINSCAN XT:860的未出货订单已累积超过20台。TWINSCAN XT:860系统的生产力可达到每天曝光5,300片晶圆。

　　极紫外光( EUV )光刻机方面，荷兰总部已经成功升级的EUV光源整合进 NXE:3400B系统中，并达成每小时输出125片晶圆的生产力指标。日前ASML则宣布EUV光源已可达250W，已突破最关键的量产技术环节。ASML预计在第三季会有3台NXE:3400B EUV光刻系统完成出货。

　　至此，ASML指出，EUV系统已经成功达成所有计划中的关键效能指标，下一阶段，将专注于达成满足客户在量产时所需的相关可靠度(availability) 指标，并持续提升系统生产力。

　　展望2017年第三季，ASML预估整体销售净额可达22亿欧元，毛利率约落在 43%，其中包含约3亿欧元的EUV营收认列。