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Imec演示high-NA EUV单次曝光实现22nm节距工艺

Imec high-NA 2026-09-18

High NA‑EUV 从实验走向量产

High NA‑EUV ASML 2026-09-09

英特尔与台积电在High-NA EUV 光刻上走出两条差异化路线

英特尔 台积电 2026-08-14

掩模成本经济格局决定高数值孔径极紫外光刻落地节奏

魏哲家亲自辟谣:台积电早已购入High-NA EUV光刻机

台积电 High-NA 2026-06-04

imec 率先利用high-NA光刻技术制备出量子点量子比特

imec 量子点 2026-05-26
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