据荷兰ASML公司高管透露，由于最近半导体厂商对沉浸式光刻设备的需求量剧增，著名光刻厂商ASML公司最近重新召回了先前辞退的700名员工，同时还 招聘了数百名新员工，这名高管表示ASML公司还需要再增加300名员工，同时还预计公司将可保证各个客户对光刻设备的订单需求。
由于消费电子设备以及PC市场对高密度芯片的需求在不断上升，ASML公司的高管表示他预计他的客户们在今明两年不会碰上所生产的芯片产品供过于求的情况。
据ASML公司今年一季度公布的财报数据显示，这家光刻厂商今年一季度末的N
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ASML 32nm 光刻设备
据台湾媒体报道，联电近日宣布，将发动公司成立30年来首次私募案。业界揣测，联电将藉此引进新策略伙伴，对象包括整合元件制造厂德仪 (TI)、设备大厂ASML，以及新崛起的同业Global Foundries(GF)等，再次挑战台积电。
半导体产业景气佳，晶圆代工厂联电积极扩产，南科12寸厂第3、4期厂房20日完工启用。联电董事会同时决议，办理12.98亿股额度私募增资案，换算相当公司已发行股数的一成，每股面额10元。以联电前天收盘价计算，最多可募得逾190亿元资金。
联电发言人刘启东坦言，&
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联电 晶圆代工 ASML Global Foundries
DRAMeXchange传来噩耗称内存芯片的价格在未来三年内将持续走高。这家市场分析公司将内存产业的兴衰周期定为3年左右，据该公司的分析师表示，2001-2003年，内存业者一直处在亏损期，而2004-2006年则恢复为持续盈利的状态，2007-2009年间则再度出现亏损期，因此他们预计从2010年开始，在全球经济危机缓和，Windows7日渐流行等因素的影响下，内存业者将再度扭亏为盈，进入新的一轮三年盈利期。
不过内存业者仍然面临另外一个重要的难题，他们要将制程水品提升到50nm以上级别则一般
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ASML 光刻 内存芯片
荷兰半导体设备生产商ASML日前公布，第一季营收为7.42亿欧元，优于路透调查得到的分析师预估值7.13亿欧元。
第一季机器订单总量为50部，总价值为10亿欧元，路透调查预估分别为43部和10亿欧元。
首席执行官Eric Meurice在声明中称：“我们第一季订单总值为10.04亿欧元，预计第二季订单水准类似，这证实了半导体行业正处于上升周期。”
分析师将ASML订单情况视作衡量芯片制造大企业预期的风向标。
第一季净利为1.07亿欧元，路透调查得到的分析
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ASML 半导体设备 芯片制造
荷兰半导体设备生产商ASML的订单状况显示今年第一季情况继续好转，投资者将详细审视该公司业绩，以寻找芯片行业结构性复苏的迹象。
分析师将该公司的订单情况视作英特尔和台积电等大型芯片生产商业绩预估的风向标。
根据路透调查，第一季半导体光刻设备订单料为43笔，多于前一季的40笔。
ASML是全球最大的光刻设备生产商，其竞争对手包括日本的Nikon和佳能。
分析师预计ASML第一季净利为9,900万欧元(1.324亿美元)，营收为7.13亿欧元。15位分析师的营收预估范围为5.90亿
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ASML 光刻
据 Information Network报道，继2008年销量下跌25%之后，2009年全球半导体光刻工具的销量进一步下跌了47%。按销售数量计算，去年光刻工具的销量总和下降了54%，其中248nm DUV光刻机的销量下降的最严重，售出的数量下跌了70%。
去年光刻机销售营收最高的是ASML公司，其所占的市场营收份额达到50%，而尼康公司则在销售的光刻机数量方面保持领先，其售出的光刻机数量占到了总量的56%。而2008年，ASML公司则在销售营收和销售机台数量上均排在头名。
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ASML 光刻工具
相比于2009年今年全球半导体业的态势好了许多，但是仍有少部分人提出质疑，2010年有那么好吗?即具备条件了吗?
在今年1月由SEMI主办的工业策略年会上(ISS)，有些演讲者表示一些担忧，认为虽然半导体业正在复苏的路上，但是制造商们仍缺少激情，不肯继续大幅的投资，以及不太愿意重新扩大招慕员工。
恐怕更大的担心来自全球半导体业间的兼并与重组到来，以及产业能否支持得起22纳米及以下技术的进步。
IBS的CEO Handle Jones认为，虽然工业正在复苏，但是在半导体业运营中仍面临成
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ASML 半导体 EUV
TSMC与荷兰艾司摩尔(ASML)公司今日共同宣布，TSMC将取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影设备，是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一。
这项设备将安装于TSMC的超大晶圆厂(GigaFab™)-台积十二厂，用以发展新世代的工艺技术。TSMC也将成为全球第一个可以在自身晶圆厂发展超紫外光微影技术的专业集成电路制造服务业者。
相较于现行浸润式微影技术以193纳米波长当作光源，超
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台积电 EUV 微影设备 ASML
10月是收获的季节，对全球半导体设备行业来说，这句话同样适用。经历了全球经济危机后，各大设备公司10-11月公布的季度报表开始全面飘红。
Applied Materials 11月11日公布的09年第4季财报显示公司已扭亏为盈，净收入实现1.38亿美元，而上季亏损为5500万美元。其Q4销售额为15.3亿美元，其中半导体设备销售占6.56亿美元，公司同时已收到了6.29亿美元的半导体设备新订单。
ASML总裁兼CEO Eric Meurice 更是喜不自胜，因为在10月14日公布的09
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ASML 半导体设备
随着芯片厂商设备订单的恢复，欧洲最大的半导体设备制造商ASML报出了2930万美元的净利润，为四个季度来首次盈利。
ASML在今天的声明中表示该公司第三季度净利润为1970万欧元(2930万美元)，即每股5欧分，低于去年同期7330万欧元的利润水平。不过这超过了彭博社调查7位分析师所得出的1060万欧元的市场预期。
该公司首席执行官埃里克·莫里斯(EricMeurice)表示，ASML的设备可以让芯片客户生产出尺寸更小的芯片，随着客户在设备投资上恢复投入，该公司本季度销售额将
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ASML 光刻 半导体设备
半导体市场回温，ASML市场智库总监Antonio Mesquida Küsters表示，客户对设备下单需求增温，他引用研究机构预测，2010年半导体微显影设备可望成长30%至少达到40亿欧元。尤其晶圆代工领域，经过18个月的压低资本支出，现在业者更积极投资扩充产能，他个人亦乐见台积电积极扩充产能，满足客户投单需求的做法。
Küsters表示，2008 年是变动相当剧烈的一年，回顾2007年时研究机构还对2008年奥运所带来的商机相当乐观，孰料DRAM价格快速崩落约65%，紧
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ASML DRAM 晶圆代工
全球最大半导体微显影设备业者ASML表示，目前客户订单增加相当多，但主是来自半导体业者制程微缩而非产能扩充的需求，半导体业者仍持续微缩半导体制程，摩尔定律预料将持续延续。以目前ASML最先进的浸润式微显影机种来看，新一代的机种NXT 1950i 也已于2009年下半出货，未来将快速增加出货，同时深紫外光(EUV)也至少囊括5套客户订单，对ASML来说2010年将是极重要的一年。
ASML NXT技术平台资深经理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代机种NXT 1950i
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ASML 38纳米 EUV设备
2010年， ASML将有5台最先进的EUV设备整装发往全球的5家客户。业界传言，最新的NXE3100系统将发送给3家顶级存储器厂商和2家顶级逻辑厂商。EUV胜利的曙光正在向我们招手，虽然目前工程师们还在荷兰Veldhoven专为EUV新建的大楼中忙碌，在设备出厂前，解决正在发生的问题，并预测着各种可能发生的问题及解决方案。
人们谈论EUV的各种技术问题已历时数年，因为其波长较目前的193nm缩短10倍以上，EUV一直是通往22nm的实力派参赛选手之一。与此同时，延伸immersion技术，用其
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ASML EUV 22nm
德国Carl Zeiss SMT AG已向半导体设备商ASML出货首台EUV光学系统。该公司已使EUV光学系统达到了生产要求。
光学系统是EUV设备的核心模块，首台EUV设备预计将在2010年出货。几周前，美国公司Cymer完成了EUV光源的开发，EUV光源是EUV光刻设备另一个关键模块。该技术将使芯片制造商进一步缩小芯片的特征尺寸，提高生产效率。
据Carl Zeiss 介绍，目前出货的光学系统已经研发了约15年。
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ASML EUV 光刻设备
ASML集团公司在美国旧金山举行的SEMICON West展会上发布多项全新光刻设备，让芯片制造商能够继续缩小半导体器件尺寸。FlexRay™ (可编程照明技术)和BaseLiner™ (反馈式调控机制)为ASML一体化光刻技术 (holistic lithography)的一部分，具有高稳定性，能够优化和稳定制造工艺。
半导体行业发展的推动力量来自小型化趋势，以降低生产成本，同时提高器件性能。不过，随着半导体器件尺寸的缩小，工艺窗口(生产出合格芯片的工艺允许偏差)也相应
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ASML FlexRay BaseLiner Eclipse
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