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ASML一体化光刻解决方案延续摩尔定律

  •   ASML集团公司在美国旧金山举行的SEMICON West展会上发布多项全新光刻设备,让芯片制造商能够继续缩小半导体器件尺寸。FlexRay™ (可编程照明技术)和BaseLiner™ (反馈式调控机制)为ASML一体化光刻技术 (holistic lithography)的一部分,具有高稳定性,能够优化和稳定制造工艺。   半导体行业发展的推动力量来自小型化趋势,以降低生产成本,同时提高器件性能。不过,随着半导体器件尺寸的缩小,工艺窗口(生产出合格芯片的工艺允许偏差)也相应
  • 关键字: ASML  FlexRay  BaseLiner  Eclipse  
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