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华虹NEC 0.162微米CIS工艺成功进入量产

作者: 时间:2009-09-22 来源:SEMI 收藏

  世界领先的纯厂之一,上海电子有限公司(以下简称“”)日前宣布成功开发了0.162微米 (CIS162) 工艺技术,已进入量产阶段。

本文引用地址:https://www.eepw.com.cn/article/98331.htm

  和关键客户合作共同开发的CIS162工艺是基于标准0.162微米纯逻辑工艺,1.8V的核心器件,3.3V的输入输出电路。经过精细调整集成了4个功能晶体管和光电二极管(photo diode) 的像素单元可以提供超低的漏电和高清优质的图像。而特别处理的后端布线工艺保证了像素区高敏感性,可以在同样条件下得到更好的图像对比度和清晰度。该工艺可广泛应用于各种电子产品,如手机摄像头、数码相机(DSC)、数码摄像机(DVC)、计算机(PC)、玩具(Toy)等。

  华虹NEC的CIS162工艺完全兼容现有的工艺, 既具备工艺的稳定性,又能满足图象传感器的低噪声、高清晰要求。CIS162的成功开发加快了华虹NEC在消费电子类数字图像处理领域的开拓步伐。



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