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双路径技术实现PLL合成器超宽环路带宽与超低相位噪声

作者: 时间:2025-11-11 来源: 收藏

随着 5G 向 6G 演进、卫星通信与毫米波技术普及,现代无线通信系统正朝着更高频率、更宽带宽、更复杂调制的方向飞速发展。无论是商业领域的地面无线网络,还是军事场景的战术视距无线电,都对核心频率源 —— 本地振荡器(LO)提出了严苛要求:不仅要突破高频甚至太赫兹频段限制,更需具备超低相位噪声、低杂散与快速调谐能力。

在当前技术路径中,直接式(混频 - 倍频 - 分频,MMD)合成器虽能满足高性能需求,但存在尺寸、重量、功耗(SWaP)过大及成本高昂、结构复杂等痛点。而间接式(,PLL)合成器虽具备轻量化、低成本优势,却受限于环路带宽,相位噪声性能难以与直接式方案抗衡。这一行业痛点,如今被一项创新技术成功破解。

双路径技术解锁超宽环路带宽

对于 PLL 合成器而言,要实现低相位噪声这一核心目标,意味着随着工作频率升高,其环路带宽必须同步拓宽(最终关注的是分数环路带宽)。通过本文介绍的特殊技术,可在这类合成器中实现传统方法无法达到的超宽环路带宽。

此外,采用单位闭环增益并仅通过(相关 PLL 内部的)倍频机制,也有助于降低相位噪声。本文将该技术应用于一款示例合成器,该合成器为单环结构(仅含一个相关 PLL,简化了设计流程),属于配备一阶有源比例积分(PI)环路滤波器的二阶二型系统,已实际应用于一款高性能接收机的本地振荡器。

合成器单环 PLL 部分关键组件框图 显示合成器单环 PLL 部分的关键组件,其中最核心的是一阶双路径有源 PI 环路滤波器,如下图。

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合成器参考 - 输入输出 - 电源部分简化框图 显示该部分的关键组件,如下图。

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一阶有源 PI 环路滤波器应用广泛,因此本文介绍的技术具备较强的通用性。经适当修改后,该技术也可应用于其他拓扑结构的 PLL。由于涉及高频环路动态特性,示例合成器基于模拟硬件设计,而非受限于当前计算速度的数字(或计算型)硬件 / 软件方案。

技术原理说明

该技术原理较为简洁,在讨论方法之前,先介绍一些有关模拟硬件PLL合成器的要点。也就是说,除了定义拓扑的性能规格外,任何相关的PLL通常还需要考虑五个主要电路实现因素:

  • 分立元件、集成电路(IC)或混合系统方案;

  • 电压输出型与电流输出型鉴相器;

  • 单输出与双输出(非差分)鉴相器;

  • 低电压输出与高电压输出鉴相器;

  • 低电压控制与高电压控制压控振荡器(VCO)。

本文介绍的技术适用于 “低电压输出鉴相器 + 高电压控制 VCO” 的组合场景,涵盖众多重要应用领域 —— 包括本文的高性能示例合成器。高电压 VCO 之所以能实现低相位噪声(和低参考杂散)的优异性能,是因为其压控灵敏度(Kv)相对低电压 VCO 更低。

该技术在示例合成器(单环、二阶二型系统、一阶有源 PI 环路滤波器)中的应用方式如下:将传统基于单个有源器件(通常是运算放大器)的环路滤波器,拆分为比例路径和积分路径两条独立的并行路径,每条路径使用专用的有源器件,且器件带宽与自身功能相匹配;随后将两条路径的输出重新组合(求和),生成统一的 VCO 控制信号。该技术被称为 “双路径” 技术,对应的环路滤波器称为 “一阶双路径有源 PI 环路滤波器”。

当无法找到兼具超高增益带宽积、极低等效电压和电流噪声、以及高直流供电电压能力的运算放大器,来同时承担比例放大器和积分放大器的角色时,这种双路径技术就显得尤为必要 —— 这也正是本文示例合成器面临的实际情况。该方法虽已问世多年,但此前尚未以本文所述的方式得到应用。不过基于前文所述的技术趋势,该方法有望得到更广泛的推广。

应用场景与性能指标

如前所述,本文的示例单环 PLL 合成器已实际应用于一款高性能超外差接收机,作为高侧第一本地振荡器(1st LO)。该接收机具备高频、宽带、复杂解调及快速调谐特性,而合成器的核心设计目标是实现尽可能低的相位噪声 —— 由于第一本地振荡器是影响接收机整体相位噪声的主要因素,这一指标至关重要。性能指标详情如下:

  • 工作频段:22.5-39.9 GHz(微波高端 / 毫米波低端);

  • 信道间隔 / 工作频率数量:200 MHz / 88 个;

  • 参考频率 / 范围:400 MHz(固定);

  • 相位连续性:相邻信道步进时相位和频率连续;

  • 稳定性:相位裕度(fm)> 45°,增益裕度(Gm)> 10 dB;

  • 单边带(SSB)相位噪声:在 100 Hz 至 40 MHz 偏移频率范围内积分值 < 350 毫度;

  • 杂散特性:载波 ±500 MHz 范围内≤-60 dBc,载波 ±(500-2000)MHz 偏移范围内≤-90 dBm;

  • 切换时间:任意两个随机信道间切换时间 < 25 微秒(从非特定瞬态过冲至稳态频率偏移 < 100 kHz,全工作频段内 < 5.75 百万分比浓度(PPM),相邻信道间 < 500 PPM),且输出功率需落入 + 12±4 dBm 区间;

  • 输出功率与平坦度:全工作频段内输出功率 + 12±4 dBm(无需有源功率均衡);

  • 直流工作功耗:最大 12.5 W;

  • 工作环境:外壳工作温度范围 - 20 至 + 70℃。

由于该合成器工作频率高、性能要求严苛,所有组件均采用分立元件,且均为封装表面贴装类型(未采用混合芯片引线技术)。以上仅为电气和环境指标,未包含机械指标。



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