美国再次放宽对华高技术产品出口 65nm以下刻蚀设备不再受限
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在SEMI及会员公司的共同努力下，经过9个月的等待，美国联邦政府正式实施放宽刻蚀设备的出口条件，原来180nm的技术审核指标被正式放宽到了65nma。
本文引用地址：https://www.eepw.com.cn/article/113313.htm
在SEMI及会员公司的共同努力下，经过9个月的等待，美国联邦政府正式实施放宽刻蚀设备的出口条件，原来180nm的技术审核指标被正式放宽到了65nma。
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