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美国再次放宽对华高技术产品出口 65nm以下刻蚀设备不再受限

作者:时间:2010-10-09来源:SEMI收藏

  在SEMI及会员公司的共同努力下,经过9个月的等待,美国联邦政府正式实施放宽的出口条件,原来180nm的技术审核指标被正式放宽到了a。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/113313.htm


关键词: 刻蚀设备 65nm

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