Entegris 扩展 VaporSorb™ 过滤器系列，帮助提高半导体制程的良率

　　Entegris, Inc.，一家为先进制造环境提供良率提升材料和相关解决方案的领先企业，日前发布了 VaporSorb™ 系列气体分子污染 (AMC) 过滤器的新产品。此款新型的“多合一”单过滤器可在半导体制造的化学机械研磨 (CMP) 工艺中去除关键 AMC。领先的过滤器品牌 VaporSorb 在半导体制造的关键步骤中主要用于洁净室环境和生产机台，是面向 CMP 生产机台的首款过滤器，可抵御弱酸以及其他污染物。

　　此款新型过滤器专为 CMP 机台设计，可为单过滤器中所有关键 AMC 提供均衡寿命，从而避免多片过滤器处理的复杂性。此外，此款过滤器保留了 VaporSorb 品牌业界领先的使用寿命优势，从而能够降低机台宕机时间和使用成本。

　　Entegris AMC 过滤解决方案产品营销经理 Marc Venet 表示，“正如在光刻工艺中那样，CMP 工艺中的良率问题可通过提供全面的 AMC 保护得以解决。这意味着能够抵御弱酸，以及强酸和其他污染物。借助 VaporSorb CMP 产品，我们可以提供一体化解决方案彻底解决 CMP 工艺中 AMC 引发的腐蚀缺陷。”

　　弱酸包括乙酸和甲酸(醋酸盐;CH3COO- 和甲酸盐;HCOO-)以及亚硝酸(亚硝酸盐;NO2-)等。强酸包括 HNO3、SO2、H2SO4 以及 HCl 等。这些污染物会导致 CMP 工艺缺陷和良率问题。

　　7 月，公司发布了业界首款“四合一”过滤器，即面向光刻机台的 VaporSorb TRK，用于捕获气体有机物、碱基类、强酸和弱酸。VaporSorb 过滤器采用 Entegris特有的混合材料，可捕获气体分子污染物，专为提供特定于应用和工厂的过滤器解决方案而量身定制。

　　欲了解有关 VaporSorb CMP 过滤器的详细信息，请访问 www.entegris.com。