尼康起诉ASML和卡尔蔡司光刻技术侵权 要求赔偿

　　北京时间4月24日晚间消息，尼康今日宣布，已对荷兰半导体行业光刻系统供应商阿斯麦(ASML)和德国光学及光电子学设备厂商卡尔蔡司(Carl Zeiss)提起诉讼，指控这两家公司未经授权而使用其光刻技术。

　　尼康称，已在荷兰、德国和日本对阿斯麦和卡尔蔡司提起诉讼。卡尔蔡司是阿斯麦的光学设备供应商。尼康在一份声明中称：“阿斯麦和卡尔蔡司在未经尼康许可的前提下，在阿斯麦的光刻系统中使用尼康的专利技术。”

　　当前，光刻系统被广泛应用于制造半导体，而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场。评级机构“惠誉评级”(Fitch Ratings)今年1月发布的调研报告显示，在高端光刻机市场，阿斯麦的份额高达90%。

　　尼康在诉讼文件中称，要求阿斯麦和卡尔蔡司对未授权使用专利技术而做出赔偿。

　　对此，阿斯麦总裁兼CEO彼得·温尼克(Peter Wennink)称：“尼康的诉讼毫无依据，没有必要，为半导体市场制造了不确定性。”温尼克还称，阿斯麦曾多次试图与尼康谈判，希望能对当前的一份交叉授权协议进行延期。