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微影技术

　　微影技术(Lithography)是制造晶体管及它们之间的连结的关键技术，在半导体制程上较狭义之定义，一般是指以光子束经由图罩(Mask， Reticle)对晶圆(Wafer)上之阻剂照射；以电子束、离子束经由图罩、图规(Stencil)对阻剂照射；或不经由图罩、图规，对阻剂直接照射（直写），使阻剂产生极性变化、主链断链、主链交连等化学作用，经显影后将图罩、图规或直写之特定图案转移至晶圆。　　1。微影技术所要求的光源，可以用可见光(Visible)、近紫外光 (Near Ultra-Violet， NUV)、中紫外光(Mid UV， MUV)、深紫外光(Deep UV， DUV)、真空紫外光(Vacuum UV， VUV)、极短紫外光(Extreme UV， EUV)、X-光(X-Ray)等光源对阻剂进行照射；也可以用高能电子束(25 100 keV)，低能电子束( 100 eV)，镓离子(Ga+)聚焦离子束(10 100 keV)对阻剂进行照射。　　2。查看更多>>

  • 微影技术资讯

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