EEPW
技术应用
日本富士通的川崎实验室透露,他们研发除了一种新型的非挥发ReRAM(电阻式记忆体),能提供更低的功耗。 包含钛镍氧化物结构的ReRAM,在刷写时只需要100mA的电流甚至更少,相比传统ReRAM,研究人员还降低了90%的波动电阻值,这一技术指标在反复高速写入和擦除时会影响产品质量和寿命。 新的技术可以更快地完成存取,5毫秒内存取10000次。 这种ReRAM未来可以替代目前的FlashRAM,并且成本较低,表现也非常突出。查看更多>>
IBM遭受重创:核心业务被Anthropic击穿
HBM4竞争格局生变
长江存储进入加速期,三期项目计划今年建成投产
国产半导体设备加速崛起
上调100%!存储市场又一重磅调价信号
2026-02-28 跨架构 IAR
2026-02-28 英飞凌 碳化硅 功率半导体
2026-02-28 航空航天 国防系统 电磁干扰 EMI 滤波 高可靠性
2026-02-28 芯粒 互操作性 Arteris IP Chiplet NoC
2026-02-28 线缆内置控制 保护装置 IC‑CPD 电动汽车 供电设备 EVSE
2026-02-28 高性能 嵌入式闪存 UFS
2026-02-28 巴斯夫
2026-02-28 Altera 5G‑A 宽带射频 FPGA Open RAN
2026-02-28 HBM4 SPHBM4 人工智能 高性能计算 内存带宽
2026-02-28 安森美 AI数据中心 高压中间母线
ReRAM