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imec 率先利用high-NA光刻技术制备出量子点量子比特

imec（比利时微电子研究中心）成为全球首家采用高数值孔径极紫外光刻（High NA EUV）工艺制造量子点量子比特的机构。一台具备实用价值的量子计算机，需要数百万个互联互通的量子比特，同时满足高可靠性与精准控制的要求...

imec 量子点 2026-05-26

英特尔陈立武：14A制程2029年量产，18A工艺良率回升

英特尔CEO陈立武在受访时透露14A节点计划于2028年启动风险试产，2029年实现规模化量产。据外媒报道，英特尔CEO陈立武在受访时，公布了14A工艺的最新路线图，并透露该节点计划于2028年启动风险试产，2029年实...

英特尔 High-NA EUV 2026-05-20

阿斯麦CEO：首批High-NA光刻机生产的芯片将在数月内面世

据路透社消息，全球顶尖芯片设备制造商阿斯麦（ASML）首席执行官克里斯托夫·富凯于当地时间周二在比利时微电子研究中心（imec）举办的行业会议上公开表示，公司预计未来数月内，将迎来首批采用新款高数值孔径（High-NA）...

ASML 阿斯麦 2026-05-20

台积电暂缓引入High-NA EUV，先进制程竞争不只是设备选择

台积电并没有急着把High-NA EUV（高数值孔径极紫外光）光刻技术放进2029年前的量产节点。作为对比，英特尔则更早导入High-NA设备。两家公司真正的差异，不只是设备选择，而是量产节奏、成本和良率风险的取舍。...

台积电英特尔 2026-04-28

Dynamic Z-Track™算法如何预测不稳定的电池负载

随着工业和个人电子产品配备更先进的技术，给电池带来的负载也越来越不可预测，因此需要更可靠且更智能的电池电量监测计。无论是新兴人工智能 (AI) 增强型设备还是无人机、动力工具和机器人等成熟系统，电池都需要承受高度动态的负...

德州仪器 Dynamic Z-Track 2025-11-24

4亿美元太贵！台积电仍拒绝购买ASML的High-NA EUV设备

目前，生产尖端半导体必不可少的EUV（极紫外）光刻设备由荷兰ASML独家供应，而台积电2nm工艺就是利用现有的EUV设备实现晶圆的大规模量产，并保持较高的良率。但随着推进到更先进的次2nm节点 —— 即1.4nm与1nm...

台积电 ASML 2025-10-23

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05-13 High-Performance DDR2 SDRAM Interface in Virtex-5 Devices

Rancho|浏览：2427|回复：0| Rancho 2012-05-13 09:25:10

05-12 【应用手册】Dynamic Reconfiguration of Transceiver Channels Using Multiple PLLs in Str

bobgeng|浏览：2307|回复：0| bobgeng 2012-05-12 11:10:36

04-30 【应用手册】Dynamic Reconfiguration of PMA Controls in Stratix V Devices

bobgeng|浏览：2092|回复：0| bobgeng 2012-04-30 17:08:42

04-29 【应用手册】High-Definition Video Reference Design(UDX4)

bobgeng|浏览：2458|回复：0| bobgeng 2012-04-29 17:29:17

04-23 【应用手册】High-Speed Differential I/O Interfaces in Stratix Devices

bobgeng|浏览：2819|回复：0| bobgeng 2012-04-23 09:13:19

04-23 【应用手册】High-Speed Differential Signaling in Cyclone Devices

bobgeng|浏览：2591|回复：0| bobgeng 2012-04-23 08:55:04

04-22 High-Side Current Sensor Has Period Output

soothmusic|浏览：2288|回复：0| soothmusic 2012-04-22 15:11:51

04-22 High-Side Positive Current Sensor Monitors Negative Supply

soothmusic|浏览：2524|回复：0| soothmusic 2012-04-22 15:04:46

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