自铠侠官网获悉,日前, 铠侠公司和闪迪公司宣布率先推出了最先进的3D闪存技术,以4.8Gb/s的NAND接口速度、卓越的能效和更高的密度树立了行业标杆。据悉,铠侠新闪存采用CBA双晶圆键合技术,分别制造CMOS控制电路、NAND存储阵列,然后键合在一起,类似长江存储的Xtacking晶栈架构。3D堆叠层数达到空前的332层,对比第8代的218层增加了多达38%。两家公司的新一代3D闪存较目前量产的第八代产品(BiCS FLASH™ generation 8)实现了33%的NAND接口速度提升,达到4.8G
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铠侠 3D闪存 NAND
据报道,NAND闪存在2025年将继续面临需求疲软和供过于求的双重压力。三星、SK海力士、美光等NAND闪存制造商都选择在2025年执行减产计划。当前,存储器市场,尤其是NAND闪存领域,似乎正步入一个低迷阶段。自2024年第三季度以来,NAND闪存价格持续下滑,这一趋势使得供应商对2025年上半年的市场需求前景持悲观态度。长期的价格疲软无疑将进一步压缩企业的利润空间,为此,三星与SK海力士均选择在2025年第一季度实施更为激进的减产措施,将NAND闪存产量削减幅度提高至10%以上。在此前的上升周期时,N
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据媒体报道,近日,研究人员发现了一种使用先进的等离子工艺在3D NAND闪存中蚀刻深孔的更快、更高效的方法。通过调整化学成分,将蚀刻速度提高了一倍,提高了精度,为更密集、更大容量的内存存储奠定了基础。这项研究是由来自Lam Research、科罗拉多大学博尔德分校和美国能源部普林斯顿等离子体物理实验室(PPPL)的科学家通过模拟和实验进行的。根据报道,前PPPL研究员、现就职于Lam Research的Yuri Barsukov表示,使用等离子体中发现的带电粒子是创建微电子学所需的非常小但很深的圆孔的最简
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3D NAND 深孔蚀刻
全球NAND闪存价格已连续四个月下跌,为应对这一不利局面,厂商开始减产以平衡供求,进而稳定价格。美光率先宣布将减产,随后三星也被曝出将调整其韩国本土的NAND产量以及中国西安工厂的开工率,韩国另一大存储芯片制造商SK海力士也计划削减产量。
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根据TrendForce集邦咨询最新研究报告指出,NAND
Flash产业2025年持续面临需求疲弱、供给过剩的双重压力。在此背景下,除了Micron(美光)率先宣布减产,Kioxia/
SanDisk(铠侠/闪迪)、Samsung(三星)和SK hynix/
Solidigm(SK海力士/思得)也启动相关计划,可能长期内加快供应商整合步伐。TrendForce集邦咨询表示,NAND Flash厂商主要通过降低2025年稼动率和延后制程升级等方式达成减产目的,背后受以下因素驱动:第一,需求疲软
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1月13日消息,据媒体报道,三星电子已决定大幅减少其位于中国西安工厂的NAND闪存生产,以此应对全球NAND供应过剩导致的价格下跌,确保公司的收入和利润。DRAMeXchange的数据显示,截至2024年10月底,用于存储卡和U盘的通用NAND闪存产品的价格较9月下降了29.18%。据行业消息,三星电子已将其西安工厂的晶圆投入量减少超过10%,每月平均产量预计将从20万片减少至约17万片。此外,三星韩国华城的12号和17号生产线也将调整其供应,导致整体产能降低。三星在2023年曾实施过类似的减产措施,当时
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12 月 5 日消息,据 Businesses Korea 今日报道,SK 海力士今日宣布完成 2025 年的高管任命和组织架构优化。本次调整任命了 1 位总裁、33 位新高管及 2 位研究员。为提升决策效率,该公司推行“C-Level”管理体系,依据核心职能分工明确责任与权限,业务单元被划分为包括 AI 基础设施(CMO)、未来技术研究院(CTO)、研发(CDO)和生产(CPO)在内的五大部门。据介绍,新设的 AI 芯片开发部门整合了 DRAM、NAND 和解决方案的开发能力,着眼于下一代 AI 内存等
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根据TrendForce集邦咨询最新调查,2024年第三季NAND Flash产业出货量位元季减2%,但平均销售单价(ASP)上涨7%,带动产业整体营收达176亿美元,季增4.8%。TrendForce集邦咨询表示,不同应用领域的NAND
Flash价格走势在今年第三季出现分化,企业级SSD需求强劲,推升价格季增近15%,消费级SSD价格虽有小幅上涨,但订单需求较前一季衰退。智能手机用产品因中国手机品牌严守低库存策略,订单大量减少,第三季合约价几乎与上季持平。Wafer受零售市场需求疲软影响,合约价反
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据韩媒报道,称三星电子在生产 3D NAND 闪存方面取得重大突破,在其中光刻工艺中大幅缩减光刻胶(PR)用量,降幅达到此前用量的一半。报道称,此前每层涂层需要7-8cc的光刻胶,而三星通过精确控制涂布机的转速(rpm)以及优化PR涂层后的蚀刻工艺,现在只需4-4.5cc。此外,三星使用了更厚的氟化氪(KrF)光刻胶,通常情况下一次工艺形成1层涂层,而使用更厚的光刻胶,三星可以一次形成多个层,从而提高工艺效率,但同时也有均匀性问题。东进半导体一直是三星KrF光刻胶的独家供应商,为三星第7代(11微米)和第
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意法半导体新推出了一款基于网络的工具ST AIoT Craft,该工具可以简化在意法半导体智能 MEMS 传感器的机器学习内核 (MLC)上开发节点到云端的 AIoT(物联网人工智能)项目以及相关网络配置。MLC机器学习内核是 ST MEMS 产品组合的专属功能,能够让传感器直接运行决策树学习模型。MLC 能够自主运行,无需主机系统参与,低延迟,低功耗,高效处理需要 AI 功能的任务,例如,分类和模式检测。ST AIoT Craft 还集成了利用 MLC在传感器内实现AI的物联网项目开发配置所需的全部步骤
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据韩媒报道,三星近期将开始销售前端和后端生产线的旧设备,其中包括位于中国西安的NAND工厂。报道称,三星近期正在半导体部门(DS)实施大规模成本削减和产线调整,并正在考虑出售其中国半导体生产线的旧设备。预计出售程序将于明年正式开始,销售的设备大部分是100级3D NAND设备。自去年以来,三星电子一直致力于将其西安工厂的工艺转换为200层工艺。
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三星 西安 NAND
10 月 29 日消息,《韩国经济日报》当地时间昨日表示,根据其掌握的最新三星半导体存储路线图,三星电子将于 2026 年推出的下代 V-NAND 堆叠层数超过 400,而预计于 2027 年推出的 0a nm DRAM 则将采用 VCT 结构。三星目前最先进的 NAND 和 DRAM 工艺分别为第 9 代 V-NAND 和 1b nm(12 纳米级)DRAM。报道表示三星第 10 代(即下代) V-NAND 将被命名为 BV(Bonding Vertical) NAND,这是因为这代产品将调
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三星 存储 V-NAND
IT之家 10 月 15 日消息,根据 TrendForce 集邦咨询最新调查,NAND Flash 产品受 2024 年下半年旺季不旺影响,wafer 合约价于第三季率先下跌,预期第四季跌幅将扩大至 10% 以上。IT之家注意到,模组产品部分,除了 Enterprise SSD 因订单动能支撑,有望于第四季小涨 0% 至 5%;PC SSD 及 UFS 因买家的终端产品销售不如预期,采购策略更加保守。TrendForce 预估,第四季 NAND Flash 产品整体合约价将出现季减 3% 至
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NAND 闪存 存储 市场分析
三星电子今日宣布成功开发其首款基于第八代V-NAND技术的PCIe 4.0车载SSD。三星新款AM9C1车载SSD凭借行业前沿的速度和更高的可靠性,成为适配车载应用端侧人工智能功能的解决方案。三星新款256GB AM9C1车载SSD相比前代产品AM991,能效提高约50%,顺序读写速度分别高达4,400MB/s和400MB/s。三星半导体基于第八代V-NAND技术的车载SSD AM9C1三星电子副总裁兼存储器事业部汽车业务负责人Hyunduk Cho表示:“我们正在与全球自动驾驶汽车厂商合作,为这些企业提
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三星电子 V-NAND 车载SSD
9月24日消息,今日,三星电子宣布成功开发其首款基于第八代V-NAND 技术的PCIe 4.0车载SSD——AM9C1。相比前代产品AM991,AM9C1能效提高约50%,顺序读写速度分别高达4400MB/s和400MB/s。三星表示,AM9C1能满足汽车半导体质量标准AEC-Q100³的2级温度测试标准,在-40°C至105°C宽幅的温度范围内能保持稳定运行。据介绍,AM9C1采用三星5nm主控,用户可将TLC状态切换至SLC模式,以此大幅提升读写速度。其中,读取速度高达4700MB/s,写入速度高达1
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三星电子 NAND PCIe 4.0 车载SSD
mlc nand介绍
MLC NAND
目录
1定义
2MLC芯片特点
3与SLC对比
1定义
MLC 全称为Multi-Level Cell,多层单元闪存,MLC通过使用大量的电压等级,每一个单元储存两位数据,数据密度比较高。
一般厂家宣称可以保证得擦除次数是3,000次 。这一点与SLC得100,000的擦除次数有不小的差异。
2MLC芯片特点
1、传输速率 [
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