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HBM4新竞局 Base Die成胜负关键

作者: 时间:2026-03-23 来源: 收藏

AI算力竞赛持续升级,高带宽记忆体(HBM)正式迈入新一轮技术分水岭。 随AMD与三星半导体宣布扩大策略合作,锁定与下一代AI存储器解决方案开发,市场关注焦点已不再局限于DRAM堆叠本身,而是转向「(逻辑基底芯片)」设计能力。 创意近期完成HMB4 PHY及控制IC之测试片(Testchips),可对标「首家内存厂样品」; 半导体业界推测,随着往先进制程推进,内存大厂将越发依赖ASIC业者奥援。

AMD与三星合作,核心在于下一代Instinct MI455X GPU导入,同步整合EPYC处理器与Helios机架级架构,从芯片到系统全面优化AI运算效能。 三星强调,其HBM4采用第6代10纳米级DRAM与4纳米逻辑,并结合晶圆代工与先进封装能力,提供一站式解决方案。

供应链消息透露,创意已完成台积电3纳米制程之HBM4 PHY及控制IC测试片,达到12Gbps超高速传输速度,并预计于4月22日台积电技术论坛中展出; 此外,创意更着手准备HBM4E(16Gbps)PHY,采用台积电SoIC-X face-to-face封装平台,并整合TSV(硅穿孔)技术。

业界研判,三星逐步扩大HBM供应版图,并藉由Base Die自制能力强化差异化优势。 SK海力士,虽在HBM3与HBM3E市占领先,并与NVIDIA维持紧密合作,但在HBM4 Base Die逻辑设计与系统整合能力上相对保守。 市场预期,随HBM4设计复杂度攀升,海力士恐需重新强化与ASIC业者合作关系。

法人分析,创意长期深耕先进制程ASIC设计,并与台积电生态系紧密连结,在HBM Base Die开发具备优势; 若海力士为提升竞争力,回头拥抱台厂,将有助补齐逻辑设计与系统整合能力缺口。 此外,台积电在SoIC与CoWoS先进封装布局领先,亦将成为HBM4竞局的重要支撑。


关键词: HBM4 Base Die

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