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HBM(高带宽内存)技术展望:2024年及以后

作者: 时间:2024-12-26 来源:TechInsights 收藏

)技术是即将到来的“内存内计算/处理”时代的一种“近内存计算(Near Memory Computing)/处理”阶段。由于人工智能/机器学习的高需求,三星、SK海力士和美光这三大内存制造商正在技术的开发上竞相角逐。是一种具有高带宽和宽通道的3D堆叠DRAM器件,这意味着它非常适合高性能计算(HPC)、高性能图形处理单元(GPU)、人工智能和数据中心应用所需的高能效、高性能、大容量和低延迟内存。因此,对于内存制造商而言,硅通孔(TSV)工艺集成和3D HBM DRAM芯片堆叠技术是最重要的关键词。随着HBM DRAM制造商为每一代产品开发和采用新技术,我们预计即将推出的HBM4(2025-2026年)和HBM4E(2027-2028年)器件将拥有48GB甚至64GB,16Hi和1.6TB/s或更高。

本文引用地址:https://www.eepw.com.cn/article/202412/465817.htm

在HBM技术和产品方面,英伟达推出了配备HBM2E和HBM3器件的Hoper H100 Tensor Core GPU、Grace Hopper GH100和GH200。请参考SK海力士在市场上所有世代(HBM1、HBM2、HBM2E、HBM3、HBM3E和HBM4)HBM DRAM芯片的功能摘要[1]。自2013年以来,SK海力士发布了用于AMD和英伟达GPU的HBM芯片。带宽从HBM Gen1的约1 Gbps和HBM Gen2的2 Gbps,增加到HBM2E的3.6 Gbps,再到现在的HBM3的6.4 Gbps和HBM3E的9.6 Gbps。
对于Gen1和Gen2 HBM器件,SK海力士在HBM DRAM芯片堆叠中采用了TC-NCF方法,而对于Gen3和Gen4则采用了MR-MUF工艺。SK海力士在此基础上进行了更多优化,并为Gen5开发了先进的MR-MUF以改善散热。即将推出的Gen6 HBM4可能会结合使用这种技术和新的混合键合技术。




关键词: HBM 高带宽内存

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