可加工5纳米芯片，尼康宣布开发新一代ArF浸入式光刻机，面向尖端半导体制造

NSR-S636E 具有增强型在线对准站(iAS)，它是集成在涂布机/显影器单元和光刻扫描仪之间的芯片预测量模块。S636E和 iAS 利用复杂的多点对准测量和高级校正功能，使设备制造商能够实现3D 设备结构所需的严格叠加精度，同时最大限度地提高浸入式光刻机的生产力。NSR-S636E非常适合尖端半导体制造，包括逻辑和存储设备、CMOS图像传感器应用等。关于NSR-S636E的更多参数还没有公布，但是从其上一代S635E宣称的已经可以生产5nm芯片来看，S636E应该至少是可以更加高效的生产5纳米芯片了，这个对于我国买不到ASML EUV光刻机来说，不失为一个很好的选择。