ASML开始供应透射率超过90%retical的EUV系统

ASML 公司近日宣布将会自今年开始，提供透射率超过 90% retical的极紫外（EUV）系统。ASML 韩国市场经理 MyoungKuy Lee 在 SMC 韩国研讨会上说，该公司将开始生产透射率超过 90.6% 的薄片。Lee 表示通过和 Teradyne 公司的共同合作，这些薄片已经确保了 400 瓦的功率耐久性。这家位于荷兰的工厂设备制造商在 2016 年首次开发了多晶硅 EUV 薄膜。当时，它的透光率为78%。它在 2018 年开发出的透光率约为 80%，另一种在 2020 年超过 85%。