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基于 Richtek RT7083GQW MCU+Gate Driver 54W-BLDC壁挂炉热风机解决方案

近年来，最吸引人眼球的可能是“5G”、“人工智能”、“自动驾驶”等时髦的词汇，大家的注意力也都集中在这些领域，但其实，有一个已经真正落地，大部分人都还没注意到的应用——直流无刷电机（BLDC）市场正在悄然兴起，而且成长迅...

Richtek RT7083GQW 2022-12-21

SK海力士引领High-k/Metal Gate工艺变革

由于传统微缩(scaling)技术系统的限制，DRAM的性能被要求不断提高，而HKMG(High-k/Metal Gate)则成为突破这一困局的解决方案。SK海力士通过采用该新技术，并将其应用于全新的1anm LPD...

SK海力士 High-k 2022-11-08

理想二极管控制器在电源“或”应用中免除了耗能的二极管

MOSFET二极管...

GATE MOSFET 2017-06-06

怎样利用信号平均技术消除噪声干扰提升重复信号采样的精准度

许多高速数据采集应用，如激光雷达或光纤测试等，都需要从嘈杂的环境中采集小的重复信号，因此对于数据采集系统的设计来说，最大的挑战就是如何最大限度地减少噪声的影响。利用信号平均技术，可以让您的测量测试系统获取更加可靠的、更加...

光纤测试 RAM 2017-06-03

高速数传中定时同步设计与FPGA实现

摘要文中对适用于高速突发通信的基于数字滤波平方的定时同步算法进行了研究。通过对在高速数据传输通信中，该定时同步环路的定时误差估计模块进行并行结构实现，大幅降低了系统对于时钟的要求，且更加易于实现;将文...

高速突发通信定时同步 2016-10-29

传三星正积极研究Gate-last工艺

　　据消息来源透露，三星公司的芯片制造技术发展战略可能发生较大的变化，他们正在考虑转向使用gate-last工艺制作high-k器件。按照三星原来的计划，他们将在年内推出的28/32nm制程芯片产品中使用gate-fir...

三星 Gate-last 2010-03-12

台积电宣布惊人之举 28nm制程节点将转向Gate-last工艺

　　去年夏季，一直走Gate-first工艺路线的台积电公司忽然作了一个惊人的决定：他们将在其28nm HKMG栅极结构制程技术中采用Gate-last工艺。不过据台积电负责技术研发的高级副总裁蒋尚义表示，台积电此番作出...

台积电 Gate-last 2010-02-23

特许半导体四季度上马32nm工艺明年转入28nm

　　新加坡特许半导体计划在今年第四季度推出32nm制造工艺，明年上半年再进一步转入28nm。　　特许半导体很可能会在明天的技术论坛上公布32nm SOI工艺生产线的试运行计划，并披露28nm Bulk CMOS工艺路...

特许半导体 32nm 2009-09-02

台积电28纳米明年1Q试产　迎击IBM阵营

　　台积电28纳米制程再迈大步，预计最快2010年第1季底进入试产，2011年明显贡献营收，台积电可望在28纳米世代迎接中央处理器(CPU)代工订单，目前28纳米制程技术最大竞争对手，仍是来自IBM阵营的Global F...

台积电 28纳米 2009-08-27

面向未来汽车应用的高可靠性创新半导体方案综述

现在，汽车行业的创新几乎完全由智能电子技术驱动，很多情况下这也是唯一可以实现新功能特性的途径。为了支持针......

MCU 汽车行业 2008-04-23

行政院计画兴建第二通道与中华电信抗衡

为有效??解我国最後一哩（last mile）的困境，行政院提出「宽频管道建置计画」，也就是投入370亿元，在全国建置6,000公里的第二共同管道宽频网路环境，和中华电信相抗衡，以协助其它固网及二类电信业者，能获得更公平...

Last 中华电信 2003-12-09

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