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FEOL

FEOL就是制程的前道，形成Device feol特指那些形成活性电性部件之前的生产步骤。在这些步骤中，晶片表面尤其是mos器件的栅区域，是暴露的、极易受损的。在这些清洗步骤中，一个极其关键的参数是表面粗糙度。过于粗糙的表面会改变器件的性能，损害器件上面沉积层的均匀性。查看更多>>

  • FEOL资讯

巴斯夫拓展与IMEC为半导体行业开发工艺化学品

IMEC 22纳米 2009-08-03

SEZ部署了FEOL清洗产品特性全新的ESANTI 单晶圆湿式平台

ESANTI FEOL 2006-12-15
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