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在半导体行业，EUV一般指EUV光刻，即极紫外光刻。 极紫外光刻（英语：Extreme ultra-violet，也称EUV或EUVL）是一种使用极紫外（EUV）波长的光刻技术。 EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13。5nm，它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。查看更多>>

  • EUV 资讯

气体控制技术提升极紫外光刻（EUV）晶圆产能

气体控制技术 极紫外光刻 2026-02-27

阿斯麦ASML公布EUV光源技术突破，2030年芯片产能或提升50%

阿斯麦 ASML 2026-02-24

阿斯麦将极紫外光刻机光源功率提升至1000瓦，助力提升芯片良率、降低制造成本

阿斯麦 极紫外光刻机 2026-02-24

国产半导体设备加速崛起

半导体设备 ASML 2026-02-03

ASML计划裁员4%，简化技术部门内的决策流程

ASML DUV 2026-01-29

三星首次引入紫外层薄膜是在美国泰勒工厂

三星 紫外层薄膜 2026-01-26
  • EUV 专栏

非常需要大陆 ASML执行长急疯了！

ASML EUV 2024-07-10

ASML：我们有五个EUV光刻机客户

EUV 2023-05-12

EUV替代品？佳能新一代光刻机将推出

EUV 2022-12-14

EUV光刻太贵，替代方案被考虑

EUV 2022-11-09

42台EUV光刻机狂赚450亿！ASML年度成绩单来了

EUV 2022-01-21

下一代EUV光刻机即将爆发

EUV 2021-12-28
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