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KLA-Tencor推出可解决二次成像挑战的首款计算光刻机
- KLA-Tencor 公司（纳斯达克股票代码：KLAC）今天推出其领先业界的最新版计算光刻机 PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案，并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战，尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。 KLA-Tencor 制程控制信息部副总裁兼总经理 Ed Charrier 指出：“由于光刻复杂性及实验成本的大幅增加，电路设计师与芯片制造商不得不面对二次成像光刻所带来的挑战。计算光刻已成为控制这
- 关键字： KLA-Tencor 光刻机 二次成像光刻
KLA-Tencor 推出第十代电子束侦测系统
- KLA-Tencor 公司（纳斯达克股票代码：KLAC）今天宣布推出 eS35 电子束侦测系统，该系统能够以大幅提升的速度检测和分类更小的物理缺陷，以及更细微的电子缺陷。eS35 属于 KLA-Tencor 的第十代电子束侦测系统，它具备更高的灵敏度，改善了单机检查和分类，并且显著加强了吞吐能力，以提高 4Xnm 和 3Xnm 设备的良率。 KLA-Tencor 的电子束技术部集团副总裁兼总工程师 Zain Saidin 表示：“电子束侦测对于捕获和发现最小缺陷以及只能通过它们的电子
- 关键字： KLA-Tencor 电子束 侦测 半导体 微电子
突破性的 KLA-Tencor 技术--通过识别可印刷缺陷实现高等级光罩检测
- 【加州圣何塞市 2008 年 4 月 24 日讯】KLA-Tencor 公司（纳斯达克股票代码：KLAC）今天推出其称为“晶片平面光罩检测” (Wafer Plane Inspection, WPI) 的最新光罩检测技术。该技术系业界首次在单一系统上提供既可查找光罩上的所有缺陷，又能显示只印刷在晶片上的缺陷的多功能性，堪称独一无二的光罩检测突破性技术。WPI不但征服了对优良率至关重要的 32 纳米光罩缺陷检测的挑战，它的运行速度也比先前的检测系统快达40%，从而有望缩短检测光罩
- 关键字： KLA-Tencor 光罩检测 32 纳米
KLA-Tencor 为晶片厂推出光罩检查系统的全新 TeraFab 系列
- KLA-Tencor 公司推出了全新系列的光罩检查系统，为晶片厂提供更灵活的配置方式，以检验进货的光罩，并检查生产光罩是否存在会降低产能并增加生产风险的污染物。TeraFab 系统提供了三种基本配置，以满足逻辑集成电路和内存晶片厂及不同代光罩的特殊检查要求。这些配置为芯片制造商提供了极具成本效益的光罩质量控制的先进工具。 KLA-Tencor 的光罩和光掩模检查部的副总裁兼总经理 Harold Lehon 表示：“在先进的晶片厂中，累积光罩污染物缺陷是一个复杂的问题，因为这些污染物有
- 关键字： KLA-Tencor
KLA-Tencor 新推出的 Aleris 8500 薄膜度量系统
- KLA-Tencor 公司推出 Aleris™ 系列薄膜度量系统，该系列从 Aleris 8500 开始，是业界第一套将可用于生产的成份与多层薄膜厚度测定结合在一起的系统。其它 Aleris 系列系统将在未来数月内以不同配置推出，以满足 45nm 节点及以下尺寸所有薄膜应用的性能与 CoO 要求。 KLA-Tencor 的薄膜与散射测量技术部 (Films and Scatterometry Technologies) 副总裁兼总经理 Ahmad Khan 表示：“随着显著影响设备性
- 关键字： KLA-Tencor 度量系统 芯片 测量工具
KLA-Tencor新推出Aleris 8500薄膜度量系统
- KLA-Tencor推出 Aleris系列薄膜度量系统，该系列从 Aleris 8500 开始，是业界第一套将可用于生产的成份与多层薄膜厚度测定结合在一起的系统。其它 Aleris 系列系统将在未来数月内以不同配置推出，以满足 45nm 节点及以下尺寸所有薄膜应用的性能与 CoO 要求。 KLA-Tencor 的薄膜与散射测量技术部 (Films and Scatterometry Technologies) 副总裁兼总经理 Ahmad Khan 表示：“随着显著影响设备性能与可靠性的新型材料与
- 关键字： KLA-Tencor Aleris 芯片 测量工具
KLA-Tencor推出达到关键性45nm晶片几何度量要求的完整度量解决方案
- KLA-Tencor 公司推出了 WaferSight 2，这是半导体行业中第一个让晶片供应商和芯片制造商能够以 45nm 及更小尺寸所要求的高精度和工具匹配度，在单一系统中度量裸晶片平面度、形状、卷边及纳米形貌的度量系统。凭借业界领先的平面度和纳米形貌测量精度，加之更高的工具到工具匹配度，WaferSight 2 让晶片供应商能够率先生产下一代晶片，并让集成电路 (IC) 制造商对未来晶片质量的控制能力更具信心。 领先的光刻系统供应商的研究表明，在 45nm 工艺中，晶片平面度的细微差异会消耗
- 关键字： 测试 测量 KLA-Tencor 半导体 晶片 MCU和嵌入式微处理器
KLA-Tencor发布全新SURFmonitor系统
- KLA-Tencor正式发布最新 SURFmonitor 系统，该模块扩展了业界领先的 Surfscan SP2 无图形表面检测系统，超越了传统的缺陷检测范围，具备监控工艺变化和偏移的能力。SURFmonitor 系统专门用于测量裸晶片或薄膜表面形态变化，而这些变化与多种工艺参数如表面粗糙度、微粒尺寸和温度等均有关联。该系统可在收集缺陷信息的同时，在不到一分钟时间内生成具备亚埃级重复性的详细全晶片参数图，使代工厂能够同时监控工艺变化和缺陷情况。S
- 关键字： 嵌入式系统 单片机 KLA-Tencor SURFmonitor 嵌入式
KLA-Tencor推出先进RET/OPC功能的LithoWare产品
- KLA-Tencor今日正式推出基于 Linux 的新型产品 LithoWare，该系统可帮助半导体电路设计人员大幅度降低 RET* 和 OPC* 工艺开发的时间和成本。LithoWare是一款基于业内标准的PROLITH 模型的光刻优化工具，它允许客户同时优化 RET 和工艺条件，并将校准数据采集降至最少，从而有效缩短从设计到生产的时间。 “LithoWare 拥有无可比拟的预测精度
- 关键字： KLA-Tencor RET/OPC 单片机 嵌入式系统
KLA-Tencor 推出基于 Linux 的新型产品 LithoWare
- KLA-Tencor正式推出基于 Linux 的新型产品 LithoWare，该系统可帮助半导体电路设计人员大幅度降低 RET* 和 OPC* 工艺开发的时间和成本。LithoWare是一款基于业内标准的PROLITH 模型的光刻优化工具，它允许客户同时优化 RET 和工艺条件，并将校准数据采集降至最少，从而有效缩短从设计到生产的时间。 “LithoWare 拥有无可比拟的预测精度以及在 Linux 计算机集群上运行的特性，它为 RET 开发人员提供了双项优势。”KLA-Tencor Corpo
- 关键字： KLA-Tencor Linux LithoWare 单片机 嵌入式系统
KLA-Tencor推出业内首套45纳米光掩膜检测系统TeraScanHR
- KLA-Tencor宣布推出 TeraScanHR 系统 – 业内首套新一代 45 纳米生产级光掩膜检测系统。45 纳米及以上节点生产中缺陷尺寸小，并采用极为复杂的 OPC*，这要求检测设备具有极高的分辨率，TeraScanHR 满足了这一要求，同时大大改进了生产效率，客户不仅可以获得 45 纳米关键层生产的最高灵敏度，而且还可降低非关键层和芯片生产的单位检测成本。 “我们新的 TeraScanHR 系统为光掩膜制造商带来了非凡的新技术和经济效益，可有效降低多代光掩膜生产的成本，其中包括异常复
- 关键字： KLA-Tencor TeraScanHR 测量 测试 光掩膜检测系统
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