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KLA-Tencor 以全新测量系统扩充其 5D™ 图型控制方案

  •   今天,KLA-Tencor Corporation推出两款先进的量测系统,可支持 16 纳米及以下尺寸集成电路器件的开发和生产:Archer™ 500LCM 和 SpectraFilm™ LD10。Archer 500LCM 套刻测量系统在提升成品率的所有阶段提供了准确的套刻误差反馈,可帮助芯片制造商解决新的图型套刻问题,例如多层光刻和隔离层掩膜分割。通过对薄膜厚度和应力进行可靠、准确的测量,SpectraFilm LD10 薄膜测量系统能对 FinFETs、3D NAND 和
  • 关键字: KLA-Tencor  Archer  

KLA-Tencor公司助力中国半导体产业发展

  •   KLA-Tencor的业务涵盖了半导体的多个领域,从硅片检测到线宽量测,以及光罩部分,KLA-Tencor都在业界处于领先水平。同时,KLA-Tencor也在积极向LED等新的领域扩展。 除了这些业务以外,KLA-Tencor还提供技术支持与服务,帮助客户实现更大的生产价值。KLA-Tencor在中国的总部位于上海,在北京、天津、苏州、无锡、大连、西安、武汉都设有分支机构。总员工人数超过190人,装机量突破了1600台。KLA-Tencor非常重视中国市场,在中国进行了持续的投资以实现进一步的发展。我
  • 关键字: KLA-Tencor  LED  

KLA-Tencor 推出 5D™ 图案成型控制解决方案的关键系统

  •   今天,KLA-Tencor 公司宣布推出 WaferSight™ PWG 已图案晶圆几何形状测量系统、LMS IPRO6 光罩图案位置测量系统和 K-T Analyzer® 9.0 先进数据分析系统。这三种新产品支持 KLA-Tencor 独特的 5D™ 图案成型控制解决方案,此方案着重于解决图案成型工艺控制上的五个主要问题——元件结构的三维几何尺寸、时间效率和设备效率。5D 图案成型控制解决方案主要通过对光刻模块工艺和非光刻模块工艺的量化、优化
  • 关键字: KLA-Tencor  测量系统  Analyzer  

KLA-Tencor 为领先的集成电路技术推出检测与检查系列产品

  •   今天,在美国西部半导体设备暨材料展 (SEMICON West) 上,KLA-Tencor 公司宣布推出四款新的系统—— 2920 系列、Puma™ 9850、Surfscan® SP5 和 eDR™-7110 ——为 16nm 及以下的集成电路研发与生产提供更先进的缺陷检测与检查能力。2920 系列宽波等离子图案晶圆缺陷检测系统、Puma 9850 激光扫描图案晶圆缺陷检测系统和 Surfscan SP5 无图案晶圆缺陷
  • 关键字: KLA-Tencor  晶圆   检测仪  

KLA-Tencor推出Teron™ SL650 光罩检测系统

  •   KLA-Tencor 公司(纳斯达克股票代码:KLAC)宣布推出 Teron™ SL650,该产品是专为集成电路晶圆厂提供的一种新型光罩质量控制解决方案,支持 20nm 及更小设计节点。Teron SL650 采用 193nm光源及多种 STARlight™ 光学技术,提供必要的灵敏度和灵活性,以评估新光罩的质量,监控光罩退化,并检测影响成品率的光罩缺陷,例如在有图案区和无图案区的晶体增长或污染。此外,Teron SL650 拥有业界领先的产能,可支持更快的生产周期,以满足检验
  • 关键字: KLA-Tencor  SL650  EUV  

KLA-Tencor宣布安装处理450mm硅片的Surfscan®SP3系统

  • KLA-Tencor 公司(纳斯达克股票代码:KLAC)日前宣布其第一台能够检测 450mm 硅片的半导 体制程控制系统已装机 。该系统被命名为 Surfscan SP3 450, 是市场领先的 Surfscan® SP3 平台的最新配置。这种全自动化的无图案硅片检测系统是为满足 20nm 及以下制程缺陷与表面品质特性的严格要求而专门设计。
  • 关键字: KLA-Tencor  Surfscan  硅片  

晶圆代工厂先进制程投资助力设备厂商业绩前行

  •   包括 KLA-Tencor 、 Novellus Systems 与 Teradyne 等半导体设备大厂陆续在近日公布最新一季财报结果,其销售业绩一如预期呈现衰退,而且他们也估计下一季业绩将衰退更多;这些厂商的收入来源集中在晶圆代工厂对32奈米与28奈米制程节点的投资。   在此同时, EDA 供货商 Cadence Design Systems的第三季财报结果则是表现亮眼,该公司表示第四季业绩将会再度出现成长。不过Cadence一反近日半导体产业界常态的成长表现,可能有部分原因是来自于会计计算方法
  • 关键字: KLA-Tencor  晶圆代工  

VLSI Research公布第三季度半导体设备厂商前十名单

  •   VLSI Research预测称2010第四季度半导体设备市场有所降温,全年半导体设备销售额预计增长96%,达到474亿美元。   Tokyo Electron和Advantest在排名前十的设备厂商中获得最大的增长幅度。Applied Materials和ASML继续保持领先地位。其他增长迅速的公司是KLA-Tencor和Dainippon Screen。
  • 关键字: KLA-Tencor  半导体设备  

KLA-Tencor以创新把握经济复苏机遇

  •   半导体市场从08年4季度开始,受经济危机拖累陷入低谷,其中半导体制造和封测设备市场更是首当其冲,削减运营成本支出一时间成为半导体厂商追捧的过冬手段。然而,对于谋求市场复兴机遇的企业,继续保持创新和研发的力度才是进补的最好战略。近日,在一年一度的品质管理峰会(Yield Management Seminar,YMS)上,半导体测试领先厂商KLA-Tencor公司首席市场官Brian Trafas博士与大家分享了公司应对危机的战略和未来发展规划。   虽然受经济大环境的影响,半导体产业的发展有所放缓,但
  • 关键字: KLA-Tencor  封测  高K金属栅  3D晶体管  200910  

KLA-Tencor再度裁员10%

  •   晶圆设备商KLA-Tencor将再度裁员10%,作为其控制成本的举措之一。   此次裁员和其他成本控制措施计划将帮助该公司减少单季运营支出达1.4亿美元至1.45亿美元。   去年11月,KLA-Tencor裁员900人,约占当时员工数的15%。一直有传言该公司将裁员25%。
  • 关键字: KLA-Tencor  晶圆  

KLA-TENCOR 推出用于测量等离子室效应的 PLASMAVOLT X2

  •   KLA-Tencor 公司日前推出了 PlasmaVolt X2,可用于在半导体晶圆处理系统中测量等离子室的状况。由于增加了内嵌式传感器数量,且空间分辨率得到改善,PlasmaVolt X2 对各种参数的变化极为敏感,例如无线电频率 (RF) 功率、气流、磁场及等离子室设计。这种等离子行为测量和特征化系统能改善生产环境中的等离子室配对、机台检验、系统故障排除及工艺开发。    KLA-Tencor 的 SensArray 分部高级副总裁兼总经理 Larry Wagner 表示:&ldquo
  • 关键字: KLA-TENCOR  PLASMAVOLT  

KLA-TENCOR 推出 PROLITHTM 12 新版计算光刻工具

  •   KLA-Tencor 公司日前推出了 PROLITHTM 12 ,这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员能够以具有成本效益的方式探索与极紫外线 (EUV) 光刻有关的各种光罩设计、光刻材料及工艺的可行性。   缩小芯片上重要器件的关键尺寸能够让芯片厂生产出更快的微处理器,但在成像时用于曝光光罩的光波波长对于能够形成的器件有最小关键尺寸的限制。在过去几代的芯片器件上,半导体行业一直使用深紫外线 (DUV) 光波。以后更短的波长将是 EUV 的天下。专家预测
  • 关键字: KLA-TENCOR  

科天推出磁盘驱动器基片和盘片缺陷检查的新技术

  •   KLA-Tencor 公司(纳斯达克股票代码:KLAC)今天针对硬盘驱动器基片与盘片高级缺陷检查推出了 Candela 7100 系列。7100 系列建立在备受肯定且已量产化的 Candela 产品线基础上,专为帮助制造商识别与分类诸如凹陷、凸起、微粒及隐藏缺陷等亚微米级关键缺陷而设计,可以提升良率,降低检测的总成本。   KLA-Tencor 成长与新兴市场 (GEM) 集团副总裁 Jeff Donnelly 表示:"Candela 7100 系列是我们光学表面分析技术的一个创新延伸,作
  • 关键字: 硬盘  驱动器  KLA-Tencor  科天  

KLA-TENCOR 推出全新控片检测系统 SURFSCAN SP2XP

  •   日前,KLA-Tencor 公司推出了 Surfscan® SP2XP,这是一套专供集成电路(IC) 市场采用的全新控片检测系统,该系统是根据去年在晶片制造市场上推出并大获成功的同名姊妹机台开发而成。全新的 Surfscan SP2XP 对硅、多晶硅和金属薄膜上的缺陷灵敏度更高,且与其上一代业界领先的产品 Surfscan SP2 相比,在按缺陷类型和大小来分类方面具有更强能力。其特性还包括真空承载装置和业界最佳的生产能力。这些功能是为芯片制造商在晶片厂提供卓越的制程机台监控而设计,使其能将领
  • 关键字: 集成电路  IC  控片检测系统  KLA-Tencor  

KLA-TENCOR推出新型 P-6 表面轮廓仪系统

  •   KLA-Tencor 公司(纳斯达克股票代码:KLAC)今天发布其最新的探针式表面轮廓测量系统 P-6™,该系统针对科学研究与生产环境(例如,光电太阳能电池制造)提供一组独特的先进功能组合。P-6 系统受益于在先进半导体轮廓仪系统上开发的测量技术,但却采用了较小与较经济的桌面型机台设计,可接受最大至 150 毫米的样本。   KLA-Tencor 的成长与新兴市场集团副总裁 Jeff Donnelly 表示:“我们对 P-6 探针系统的推出感到振奋,该系统将为科学与太阳能客户
  • 关键字: KLA-Tencor  表面轮廓仪  光电太阳能  
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