- KLA-Tencor正式发布了业界第一套用于 post-RET（分辨率增强技术）掩膜版设计版面 (reticle design layout)检测的完整芯片光刻制程工艺窗口(lithography process window)（允许误差空间）检测系统。DesignScan 能使芯片生产商减少掩膜版的设计修正次数，获得高成品率的设计，以实现更好的参数化设计性能和快速的上市时间
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KLA-TENCOR 方案 光刻设计 检测 其他IC 制程
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