新闻中心

EEPW首页 > 模拟技术 > 业界动态 > LED衬底第三代半导体SiC技术的崛起

LED衬底第三代半导体SiC技术的崛起

作者:时间:2015-01-08来源:OFweek半导体照明网收藏

  第一代半导体材料Si点燃了信息产业发展的“星星之火”,而Si材料芯片也成就了“美国硅谷”高科技产业群,促使英特尔等世界半导体巨头的诞生,95%以上的半导体器件和99%以上的集成电路都是由Si材料制作。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/267833.htm

  

 

  目前全球40%能量作为电能被消耗,而电能转换最大耗散是半导体功率器件。曾经的“中流砥柱”Si功率器件已日趋其发展的材料极限,难以满足当今社会发展对于高频、高温、高功率、高能效、耐恶劣环境以及轻便小型化的新需求。以为代表的第三代半导体材料凭借其优异属性,将成为突破口,正在迅速崛起。

  

 

  作为一种宽禁带半导体材料,不但击穿电场强度高、热稳定性好,还具有载流子饱和漂移速度高、热导率高等特点,可以用来制造各种耐高温的高频、高效大功率器件,应用于Si器件难以胜任的场合。

  

 

  以为代表的第三代宽禁带半导体技术在半导体照明领域获得重要应用之后,不断取得新突破,将被广泛应用于光电子器件、电力电子器件等领域,以其优异的半导体性能在各个现代工业领域都将发挥重要革新作用,应用前景和市场潜力巨大。

  其中,科锐(Nasdaq: CREE)SiC基(金属氧化物半导体场效应管)技术获得显著提升,能够在1700V电压下工作,开关损耗仅为采用传统Si基IGBT(绝缘栅双极型晶体管)的1/6,在实现高性能的同时还能减少配套零部件的物料成本,从而在系统层面显著节约开支,可完全颠覆电源转换领域现有规则,开启更多令人振奋的设计选项。

晶体管相关文章:晶体管工作原理


晶体管相关文章:晶体管原理

上一页 1 2 下一页

关键词: LED SiC MOSFET

评论


相关推荐

技术专区

关闭