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光刻胶

光刻胶-正文Top 　　又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图）。光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。查看更多>>

  • 光刻胶资讯

IMEC研发新型曝光后烘烤工艺，提速EUV设备并提升先进芯片产能

IMEC 曝光后烘烤 2026-02-28

上海出台新规划，重点发展集成电路、关键设备及光刻胶

上海 集成电路 2026-01-15

日本或将全面停止向中国出口光刻胶

光刻胶 2025-12-09

华为相关公司推动中国芯片在材料、光刻胶和EDA领域的构建

华为 芯片 2025-11-20

中国研究团队首度揭秘光刻胶在显影液中的微观行为，为提升光刻精度与良率开辟新路径

光刻胶 显影 2025-10-28

三星大幅减少未来生产NAND所需光刻胶使用量

三星 光刻胶 2024-11-27
  • 光刻胶专栏

意义重大！我国光刻胶迎新突破，为EUV光刻胶铺路

光刻胶 2024-04-07

日本人还没封死的光刻胶，我们已经火烧眉毛了！

光刻胶 2023-08-02

突破海外光刻胶技术封锁！揭秘博康十七年求索路

芯片 光刻胶 2023-05-09

徐州冲出一个光刻胶独角兽，估值70亿

光刻胶 2023-04-26

本土ArF光刻胶通过验证，国内首款！

光刻胶 2023-03-23

光刻胶需求持续增长：中国自研技术

光刻胶 2022-07-22
光刻胶论坛
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