ALD技术社区-电子产品世界

9 月 1 日，在第十四届半导体设备材料及核心部件展（CSEAC 2026）期间，中微公司发布六款自主研发的高端微观加工设备，覆盖极高深宽比刻蚀、PECVD、ALD、金属薄膜沉积与 SiC 外延五个方向，对应先进存储、先...

中微公司 CSEAC2026 2026-09-02

IT之家 4 月 16 日消息，消息源 yeux1122 近日在其 Naver 博客上曝料，表示从苹果供应链处获悉，苹果正测试新的抗反射光学涂层技术，可以减少镜头炫光和鬼影等伪影，从而提高照片质量。供应链消息称...

ALD iPhone 2024-04-16

思锐智能携业界尖端的离子注入（IMP）和原子层沉积（ALD）技术亮相SEMICON China 2024，持续建设全球一流的高端半导体制造装备，广泛赋能集成电路、第三代半导体等诸多高精尖领域。展会现场精彩瞬间思锐智能离子...

高端半导体装备 SRII 2024-03-25

日前，以“凝聚芯合力，发展芯设备”为主题的第十届（2022）中国半导体设备年会（CSEAC）在无锡太湖国际博览中心隆重召开。中国集成电路创新联盟秘书长、中国半导体协会集成电路分会理事长叶甜春在致辞中强调，中国集成电路发展...

思锐智能 ALD 2022-11-04

原子层沉积(ALD, Atomic Layer Deposition)工艺，是当前及未来工艺节点相关的收缩及更复杂器件几何形状上沉积薄层材料的关键技术。如今，随着技术节点以惊人的速度持续进步，精确而又高效地生成关键器件特...

原子层沉积 ALD 2022-07-27

原子层刻蚀和沉积工艺利用自限性反应，提供原子级控制。泛林集团先进技术发展事业部公司副总裁潘阳博士分享了他对这个话题的看法。图 1. 原子层工艺中的所有半周期反应是自限性反应。技术节点的每次进步都要求对制造工艺变化进行更...

ALE ALD 2020-06-02

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