- 9月30日讯，此前有媒体报道，由于先进制程推进顺利和订单量扩大，台积电将加大EUV光刻机的采购力度，预计到2021年底采购量为55台左右。台积电方面回复称：公司不评论市场传闻。据了解，一台EUV光刻机售价近8亿元，55台EUV光刻机价值约440亿元。相关阅读：台积电明年底前将累计采购55台EUV光刻机：花费超440亿元出处：快科技 作者：万南芯片制程已经推进到了7nm以下，这其中最关键的核心设备就要数EUV光刻机了，目前全世界只有荷兰ASML（阿斯麦）可以制造。来自Digitimes的报道称，台积电打算在
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EUV 光刻机 台积电
- 9月16日，中国科学院院长白春礼在国新办发布会上介绍称，“率先行动”计划第二阶段要把美国“卡脖子”的清单变成科研任务清单进行布局，集中全院力量聚焦国家最关注的重大领域攻关。白春礼称，从2021年到2030年未来的十年是“率先行动”计划第二阶段。对此，首先要进行体制机制改革。他称，目前已经设立了创新研究院、卓越创新中心、大科学中心和特色所四类机构，目的是根据科研性质不同进行分类定位、分类管理、分类评价、分类资源配置。“这个工作还没有完，只是进行了一部分，所以第二阶段我们争取在2025年要把四类机构全部做完，
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华为 中科院 EUV 光刻机 ASML
- 相信大家都知道，在前几天，ASML重磅官宣了一条大新闻，正式在中国宝岛台湾建设了第一家海外培训中心—亚洲培训中心，这家培训中心标配了14名培训技师，一年大约可以培养超过360名EUV光刻机操作工程师，能够让芯片生产加工企业更好的掌握和使用EUV光刻机，从而可以进一步提高5nm/3nm芯片的良品率，其实ASML在台湾建设这座亚洲培训中心，最大的目的就是为了直接帮助台积电培养更多的光刻机操作工程师，因为在过去两年时间里，ASML一共售卖了57台EUV光刻机产品，其中台积电就购得了30台，占据着绝大部分的份额，
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台积电 5nm EUV
- 24日，台积电举办了第26届技术研讨会，并披露了旗下最新工艺制程情况。按照台积电的说法，5nm工艺规划了两代，分别是N5和N5P。其中N5确定引入EUV（极紫外光刻）技术，并且已经在大规模量产之中。相较于N7，N5的功耗降低了30%、性能提升了15%，逻辑器件密度是之前的1.8倍。N5P作为改良版，仍在开发中，规划2021年量产，相较于第一代5nm，功耗进一步降低10%、性能提升5%，据称面向高性能计算平台做了优化。据手头资料，台积电的5nm有望应用在苹果A14芯片（包括Apple Silicon PC处
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台积电 5nm EUV
- 台积电在高端制程技术上冲锋陷阵，已经成为光刻机龙头 ASML 在 EUV 机台上的最大采购客户，累计已经购买了 30 台 EUV 设备。日前，ASML 继在韩国成立 EUV 技术培训中心后，也在台积电先进制程的重镇台湾台南，成立 EUV 技术培训中心。一台EUV系统需要50个工程师操作一台造价逾一亿欧元的精密 EUV 系统，重量高达 180&nbs
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EUV 台积电 ASML
- 日前，中国国际半导体技术大会（CSTIC）在上海开幕，为期19天，本次会议重点是探讨先进制造和封装。其中，光刻机一哥ASML（阿斯麦）的研发副总裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能够处理7nm和更先进工艺的设备，EUV技术已经被广泛认为是突破摩尔定律瓶颈的关键因素之一。Yen援引统计数据显示，截至2019年第四季度，ASML当年共售出53台EUV NXE：3400系列EUV光刻机，使用EUV机器制造的芯片产量已经达到1000万片。他说，EUV已经成为制造7nm、5nm和3nm逻辑集成电
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- 2020年因为全球经济的问题，本来电子行业会下滑，但是晶圆代工场合不降反升，台积电Q1季度营收大涨了30%，牢牢坐稳了全球晶圆代工一哥的位置。由于华为、苹果等公司的7nm及5nm工艺需求大，台积电目前正在疯狂增加EUV产能。台积电2018年量产了7nm工艺，不过第一代7nm没有EUV工艺加持，2019年的7nm EUV工艺才由华为的麒麟990 5G处理器首发，而今年的5nm工艺则会全面上马EUV工艺。根据台积电之前公布的数据，7nm及7nm EUV工艺目前每月的产能达到了11万片晶圆/月，而5nm工艺的月
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- 随着时间迈入2020年中，以台积电和三星为代表的芯片半导体也从7nm逐步向5nm进发，实际上麒麟1020和苹果A14芯片就是基于台积电5nm工艺，表现相较7nm将会更上一层楼。很明显在7nm时代，三星是落后于台积电的，不过这家巨头似乎想在5nm时代弯道超车，近日据媒体报道，三星宣布将于汉城南部的平泽市建造全新的5nm晶圆厂。该工厂是三星在韩国国内的第六条晶圆代工产线，将应用先进的极紫外光微影（ExtremeUltravioletlithography，EUV）制程技术，拿7nmEUV工艺对比，三星5nmE
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三星 5nm EUV
- 台积电上周发布了3月及Q1季度财报,营收同比大涨了42%,淡季不淡。不过接下来的日子半导体行业可能不太好过了,ASML的EUV光刻机已经断货,要延期交付,好在台积电今年已经在5nm工艺上抢先三星了。根据ASML之前的报告,3月底他们下调了1季度营收预期到24-25亿美元,差不多减少了1/4左右的营收,毛利率也下滑到了45-46%之间。此外,ASML的EUV光刻机也因为种种原因断货了,虽然订单没有取消,但是交付要延期了,三星、台积电今年都不太容易快速扩张EUV产能。不过台积电在这次危机中更有优势地位,他们包
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- 据ZDnet报道，三星宣布，已成功将EUV技术应用于DRAM的生产中。
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三星 EUV DRAM
- 当前在芯片制造中最先进的EUV（极紫外光刻）工艺被三星率先用到了DRAM内存颗粒的生产中。这家韩国巨头今日宣布，已经出货100万第一代10nm EUV级（D1x）DDR4 DRAM模组，并完成全球客户评估，这为今后高端PC、手机、企业级服务器等应用领域开启新大门。得益于EUV技术，可以在精度更高的光刻中减少多次图案化的重复步骤，并进一步提升产能。三星表示，将从第四代10nm级（D1a）DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV，明年基于D1a大规模量产DDR5和LPDDR5内存芯片，预计会使12
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- 只有引入EUV技术的6nm才是真正的6nm，而这项技术也将伴随未来可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路
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EUV 6nm 光刻机
- 近日，泛林集团发布了一项用于EUV光刻图形化的干膜光刻胶技术。泛林集团研发的这项全新的干膜光刻胶技术，结合了泛林集团在沉积、刻蚀工艺上的领导地位及其与阿斯麦 (ASML) 和比利时微电子研究中心 (imec) 战略合作的成果，它将有助于提高EUV光刻的分辨率、生产率和良率。泛林集团的干膜光刻胶解决方案提供了显著的EUV光敏性和分辨率优势，从而优化了单次EUV光刻晶圆的总成本。由于领先的芯片制造商已开始将EUV光刻系统应用于大规模量产，进一步提升生产率和分辨率将帮助他们以更合理
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EUV 光刻
- 泛林集团与阿斯麦 (ASML) 和比利时微电子研究中心 (imec) 共同研发的全新干膜光刻胶技术将有助于提高EUV光刻的分辨率、生产率和良率。
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泛林 EUV 干膜光刻胶技术
- 作为全球唯一能生产EUV光刻机的公司,荷兰ASML公司去年出售了26台EUV光刻机,主要用于台积电、三星的7nm及今年开始量产的5nm工艺,预计今年出货35台EUV光刻机。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时,支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的产能也从之前的125WPH(每小时处理晶圆数)提升到了175WPH。不论NXE:3400B还是NXE:
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