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尼康NA超过1的液浸设备半导体商正式采用

• 　尼康日前正式宣布，2006年1月已向大型半导体厂商供应用于55nm工艺（hp55）芯片制造、开口数（NA）为1.07的液浸ArF曝光设备“NSR-S609B”。这是全球首次供应NA超过1的液浸ArF曝光设备。  　　这家大型半导体厂商的名字，尼康没有公布，估计是过去在技术方面与之开展合作的东芝。  　　作为全折射型液浸曝光设备，NSR-S609B具有全球最大的NA，配合偏光照明技术，能够实现很高的分辨率。对于液浸产生的缺陷和重合不稳定性的问题，据称利用名为“Local-fill（局部
• 关键字： NA  尼康  嵌入式系统