氮化镓(GaN)作为第三代半导体材料的典型代表之一,由于其宽带隙、高击穿电场强度等特点,被认为是高频功率半导体器件的理想材料。为研究GaN功率放大器的特点,基于Agilent ADS仿真软件,利用负载/源牵引方法设计制作了一种S波段GaN宽禁带功率放大器(10W)。详细说明了设计步骤并对放大器进行了测试,数据表明放大器在2.3~2.4 GHz范围内可实现功率超过15W,附加效率超过67%的输出。实验结果证实,GaN功率放大器具有高增益、高效率的特点。
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设计 功率放大器 GaN 一种
引言 近年来,光伏产业发展迅猛,提高效率和降低成本成为整个行业的目标。在晶体Si太阳电池的薄片化发展过程中,出现了许多严重的问题,如碎片、电池片隐裂、表面污染、电极不良等,正是这些缺陷限制了电池的光电
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电池 缺陷 应用 太阳 Si 技术 检测 晶体 发光
目前国际上商品化的GaN基LED均是在蓝宝石衬底或SiC衬底上制造的。但蓝宝石由于硬度高、导电性和导热性差等原因,对后期器件加工和应用带来很多不便,SiC同样存在硬度高且成本昂贵的不足之处,而价格相对便宜的Si衬底由于有着优良的导热导电性能和成熟的器件加工工艺等优势,因此Si衬底GaN基LED制造技术受到业界的普遍关注。
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GaN LED 衬底 功率型
Automated DDR3 Analysis Quantum-SI 2008.04 automates signal integrity and timing analysis of DDR3 interfaces. Enhancements include new DDR3-specific waveform quality checks and modeling of dynam
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Quamtum-SI DDR3 仿真
美国iSuppli公布了关于GaN(氮化镓)功率半导体市场将迅速增长的调查报告)。报告显示,2010年的市场规模近乎为零,但3年后到2013年将猛增至1.836亿美元。各厂商将以替代现有功率MOSFET的方式,不断扩大市场规模。iSuppli预测,该产品在高性能服务器、笔记本电脑、手机及有线通信设备等方面的应用将取得进展。
目前,GaN功率半导体正处于在研究室评测阶段,或者刚开始商用化的阶段。不过,GaN功率半导体与采用Si(硅)的功率MOSFET相比,具有导通电阻较低等优点,可提高电源电路的转
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GaN MOSFET
摘 要:介绍SI-PROG编程器的工作原理,利用PC机串口UART芯片实现单片机的ISP下载。PC机串口8250芯片中SOUT,DTR,RTS,CTS四个引脚的电平可通过其内部的几个寄存器分别进行控制或读取,利用引脚可实现单片机的ISP下栽
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及其 程序设计 原理 工作 编程器 SI-PROG
使用国产6H―SiC衬底的GaN HEMT外延材料研制出高工作电压、高输出功率的A1GaN/GaN HEMT。利用ICCAP软件建立器件大信号模型,利用ADS软件仿真优化了双级GaNMMIC,研制出具有通孔结构的GaN MMIC芯片,连续波测试显示,频率为9.1~10.1 GHz时连续波输出功率大于10W,带内增益大于12 dB,增益平坦度为±0.2 dB。该功率单片为第一个采用国产SiC衬底的GaN MMIC。
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MMIC SiC GaN 衬底
合成仪器(SI)由模块化组件构建并启用高速处理器和近代总线技术,有望给测试用户带来更多的功能与灵活性,较低廉的总成本、更高速操作、更小的物理占用面积以及较长的使用寿命。然而,生产厂家和用户共同面临的一个问题是缺乏统一的,能满足体系结构和商品化要求的设计标准。PXI和VXI模块仪器是这类应用的最佳候选,但对SI设计人员亦有诸多限制,最终形成具有专用接口与控制模块包装的混合系统。
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测试测量 SI LXI
一直以来,信号完整性都是模拟工程师考虑的问题,但是随着串行数据链接的传输速率向GHz级发展,数字硬件设计人员现在也必须关注这个重要的问题。
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Tundra SI 串行
国际整流器公司 (International Rectifier,简称IR) 宣布,成功开发出一种革命性的GaN功率器件技术平台。与此前最先进的硅基技术平台相比,该技术平台可将关键特定设备的品质因子 (FOM) 提高1/10,显著提高计算和通信、汽车和电器等终端设备的性能,并降低能耗。
开拓性GaN功率器件技术平台是IR基于该公司的GaN器件专利技术,历经5年研发而成的成果。
IR的GaN功率器件技术平台有助于实现电源转换解决方案的革命性进步。通过有效利用公司60年来在电源转换专业知识方面
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IR 功率器件 GaN 终端
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GAN 蜂窝 话音质量
Cree发布了两款突破性的GaN HEMT三极管,用于覆盖4.9-5.8GHz频带的WiMAX。新款三极管CGH55015F与CGH55030F是首次发布的特定工作在5.8GHz的GaN HEMT WiMAX产品,其性能级别进一步证实了Cree在GaN技术上的的领导地位。
新款15-watt与30-watt器件的重要潜在特性包括:
1. 相比于类似功率级的GaAs MOSFET器件,效率增加四倍
2. 相比于商业可用硅LDMOS,提高了工作频率
3. 在免授权的5.8G
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三极管 WiMAX Cree GaN
研究人员介绍,他们第一次在200mm硅(111)晶圆上沉积了无裂缝的AlGaN/GaN结构。高清晰XRD测量显示出很高的晶体质量,并且研究人员还报告了“出色的”表面形貌和均匀性。AlGaN和GaN薄膜是在Aixtron应用实验室的300mmCRIUS金属-有机化学气相外延(MOVPE)反应腔中生长的。
“对实现在大尺寸硅晶圆上制作GaN器件的目标来说,在200mm硅晶圆上生长出
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硅晶圆 GaN 200mm MEMC
要预测客户对一款手机性能的接受程度,从而预测手机设计的品质,需要进行实际使用测试。使用测试是一种很有价值的工具,本文将介绍如何进行此类测试。
UMA/GAN是一种能让移动电话在传输话音、数据、既有话音也有数据或既无话音也无数据时在蜂窝网络(例如 GERAN--GSM/EDGE 无线接入网)和IP接入网络(例如无线 LAN)之间无缝切换的系统。作为网络融合发展过程中一项里程碑式的技术,UMA/GAN能让手机用户得以享受固定宽带网提供的服务。UMA/GAN最初叫做免许可移动接入(UMA)网,之后被3
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移动电话 UMA GAN SEGW WLAN
由青岛杰生电气有限公司承担的国家863半导体照明工程重点项目“氮化镓-MOCVD深紫外”LED材料生长设备研制取得突破,我国首台具有自主知识产权的并能同时生长6片外延片的MOCVD设备研制成功。
该设备在高亮度的蓝光发光二极管(LED)、激光器(LD)、紫外光电探测器、高效率太阳能电池、高频大功率电子器件领域具有广泛应用。MOCVD是半导体照明上游关键设备,目前国内半导体照明产业的研发和生产所需设备全部依赖进口。在此之前,杰生电气已先后研发出2英寸单片和2英寸3片的
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