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联发科Helio X35细节曝光:采用10nm工艺

作者:时间:2016-09-20来源:中关村在线收藏

  据台湾媒体报道,芯片厂商将在明年推出Helio X30。与此同时为了提高10nm工艺产能,也希望同样采用10nm制程工艺来研制Helio 。这种策略和之前发布的Helio X25和X20非常相似,这也是为了满足更多中高端智能手机需求。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/201609/297183.htm

  Helio 细节曝光:采用10nm工艺(图片来自于谷歌)

  此前,联发科COO朱尚祖曾透露Helio X30将采用台积电10nm工艺,基带支持3载波聚合,Cat.10-Cat.12的全网通,GPU方案抛弃了ARM Mali,而是来自imagination的PowerVR。

  至于其余方面的信息,根据之前曝光的情况来看,Helio X30仍然沿用2*A72+4*A75+4*A35的十核架构。其中,两枚A72将直奔2.8GHz,A53以及A35的主频也将直接提升到2.2GHz以及2.0GHz。同时,Helio X30将支持最高8GB的LPDDR4闪存,支持UFS 2.1标准。

  目前仍然没有具体的Helio 架构信息,不过按照之前X20与X25的关系来看,新版Helio X35与X30在架构上应该没有区别,但是在主频方面可能会继续提升,以便在性能上拉开差距。



关键词: 联发科 X35

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