PVD技术社区-电子产品世界网

应用材料公司宣布推出一种全新系统，可改进晶体管布线沉积工艺，从而大幅降低电阻，突破了芯片在性能提升和功率降低两方面所面临的重大瓶颈。芯片制造商正在利用光刻领域的先进技术将芯片制程缩小至3纳米及以下节点。但随着互连线变细，...

PVD 布线 2022-05-27

由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点，ALD（原子层淀积）技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用此技术，但近来ALD在其它半导体工艺领域也已发展出愈来愈广泛的应用。...

ALD 半导体制造 2017-06-08

　　应用材料公司日前宣布，推出新的物理气相沉积(PVD)和电浆强化化学气相沉积(PECVD)技术，促使超高画质(UHD)电视及高画素密度屏幕的行动装置迈向新纪元。　　这项重大转型技术的关键是新的金属氧化物与低温多晶硅...

应用材料电视 2012-11-26

　　02专项的实施，对国内半导体材料企业尤其是设备企业来说，具有历史性的意义，因为半导体设备的研发所需资金数额巨大，若完全由国内企业自己承担，恐怕难以承受其重。02重大专项的实施，不仅表明国家支持半导体支撑业的决心，而且...

IC PVD 2011-04-13

　　道康宁公司今天宣布扩展其道康宁® 品牌的表面耐污涂料产品系列。新系列包含道康宁® 2634P产品，呈无溶剂球状，其可通过物理气相沉积 (PVD) 的方式来使用。　　经常受到触摸的表面很容易受到污染...

道康宁 PVD 2010-09-09

　　半导体产业的低谷挡不住技术前进的脚步。近期两大设备厂商Applied Materials和Novellus相继推出了新型PVD机台，目标均锁定为32nm及更小的技术节点。　　5月28日，设备巨头Novellus宣...

Novellus 半导体 2009-06-04

ADI家庭总线数据线供电解决方案