EEPW
技术应用
80年代以来,迅猛发展的超大规模集成电路技术给高压大电流半导体注入了新的活力,一批新型的声控功放器件诞生了,其中最有代表性的产品就是VDMOS声效应功率晶体管。 这种电流垂直流动的双扩散MOS器件是电压控制型器件。在合适的栅极电压的控制下,半导体表面反型,形成导电沟道,于是漏极和源极之间流过适量的电流 VDMOS兼有双极晶体管和普通MOS器件的优点。与双极晶体管相比,它的开关速度,开关损耗小;输入阻抗高,驱动功率小;频率特性好;跨导高度线性。查看更多>>
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