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cmos finfet 文章 进入cmos finfet技术社区

新日本无线推出超低功耗CMOS运放NJU77806

  • 新日本无线推出的这款单电路轨至轨输出的CMOS运放 NJU77806 的独特之处是同时具有业界最低噪声 (5.5nV/√Hz typ. at f=1kHz) 和低功耗 (1.8V,500uA) 两种特性,还备有良好的宽带特性 (GBP=4.4MHz) 和强RF噪声抑制能力,是一款两全其美外加实用的好产品。
  • 关键字: 新日本  CMOS  无线网络  

技术:CMOS集成电路电阻的应用分析

  •   目前,在设计中使用的主要有3种电阻器:多晶硅、MOS管以及电容电阻。在设计中,要根据需要灵活运用这3种电阻,使芯片的设计达到最优。   1CMOS集成电路的性能及特点   1.1功耗低CMOS集成电路采用场效应管,且都是互补结构,工作时两个串联的场效应管总是处于一个管导通,另一个管截止的状态,电路静态功耗理论上为零。实际上,由于存在漏电流,CMOS电路尚有微量静态功耗。单个门电路的功耗典型值仅为20mW,动态功耗(在1MHz工作频率时)也仅为几mW。   1.2工作电压范围宽CMOS集成电路供电
  • 关键字: CMOS  电阻  

3.7 GHz宽带CMOS LC VCO的设计

  • 电子产品世界,为电子工程师提供全面的电子产品信息和行业解决方案,是电子工程师的技术中心和交流中心,是电子产品的市场中心,EEPW 20年的品牌历史,是电子工程师的网络家园
  • 关键字: CMOS  LCVCO  电感  射频开关  PVT  锁相环  

MAX4617-MAX4619低电压、CMOS模拟多路复用器/开关

  • 概述:MAX4617/MAX4618/MAX4619是高速,低电压,CMOS模拟集成电路的配置为8通道多路复用器(MAX4617),两个4通道多路 ...
  • 关键字: MAX4617  MAX4619  CMOS  多路复用器  

Mentor工具被纳入台积电16纳米FinFET制程技术参考流程

  • Mentor Graphics公司(纳斯达克代码:MENT)日前宣布它已完成其用于台积电16纳米FinFET制程的数字成套工具。台积电16纳米参考流程包含一些新功能,用于Olympus-SoC™布局与布线系统的16纳米设计,以及Calibre®物理验证和可制造性设计(DFM)平台。
  • 关键字: Mentor  FinFET  

上海自贸区解除游戏机销售禁令 红外LED厂受惠

  •   随着上海自贸区挂牌时间的临近,本周自贸热卷土重来:龙头股外高桥及陆家嘴连续收出两个涨停板,且涨势有向纵深方向扩散的迹象。此前,市场人士就已获悉,允许国外企业在华销售游戏机将是上海自贸区蓝图的一部分;本月23日晚间,百视通发布的与微软在上海自贸区组建合资公司的公告,更是令自贸区相关游戏机概念的炒作热潮一触即发,百视通昨日就强势涨停。   分析人士表示,百视通与微软在上海自贸区设立合资公司的举措表明,实行了十三年的游戏机禁令将在上海自贸区正式终结;在此背景下,预计与游戏机生产相关的软硬件公司,如水晶光电
  • 关键字: 红外LED  CMOS  

铜柱凸点将成为倒装芯片封装的主流

  •   铜柱凸点和微焊点将改变倒装芯片的市场和供应链。之所以这样说,是因为除了移动产品用处理器和内存外,其他CMOS半导体也需要在比现在更小的芯片面积上实现更多的I/O个数以及更高的带宽,并采取更好的散热措施。   目前全球倒装芯片市场规模为200亿美元,以年增长率为9%计算,到2018年将达到350米亿美元。在加工完成的倒装芯片和晶圆中,铜柱凸点式封装的年增长率将达到19%。到2014年,已形成凸点的晶圆中将有50%使用铜柱凸点,从数量上来说,铜柱凸点式封装将占到倒装芯片封装市场的2/3。   
  • 关键字: CMOS  倒装芯片  

FinFET新技术对半导体制造产业的影响

  •   FinFET称为鳍式场效晶体管,由于晶体管的形状与鱼鳍的相似性而得到该命名。这是一种新的互补式金氧半导体(CMOS)晶体管。FinFET是对场效晶体管的一项创新设计,变革了传统晶体管结构,其控制电流通过的闸门被设计成类似鱼鳍的叉状3D架构,将原来的单侧控制电路接通与断开变革为两侧。   FinFET这样创新设计的意义,在于改善了电路控制并减少漏电流,缩短了晶体管的闸长,对于制程流程、设备、电子设计自动化、IP与设计方法等产生重要影响与变革。FinFET技术升温,使得半导体业战火重燃,尤其是以Fi
  • 关键字: FinFET  半导体制造  

FinFET引爆投资热 半导体业启动新一轮竞赛

  •   半导体业界已发展出运用FinFET的半导体制造技术,对制程流程、设备、电子设计自动化、IP与设计方法产生极大变化。特别是IDM业者与晶圆代工厂正竞相加码研发以FinFET生产应用处理器的技术,促使市场竞争态势急速升温。   过去数10年来,互补式金属氧化物半导体(CMOS)平面电晶体一直是电子产品的主要建构材料,电晶体几何结构则一代比一代小,因此能开发出高效能且更便宜的半导体晶片。   然而,电晶体在空间上的线性微缩已达极限,电晶体缩小到20奈米(nm)以下,会降低通道闸极控制效果,造成汲极(Dr
  • 关键字: 半导体  FinFET  

ASM高级技术产品经理Mohith Verghese谈CMOS面临的关键挑战

  •   高介电常数(High-k) 金属闸极应用于先进互补式金氧半导体(CMOS) 技术的关键挑战是什么?   高介电常数/金属闸极(HKMG) 技术的引进是用来解决标准SiO2/SiON 闸极介电质缩减所存在的问题。虽然使用高介电常数介电质能够持续缩减等效氧化物厚度(EOT),整合这些材料需对NMOS及PMOS 元件采用不同的金属闸极。为了以最低临界电压(从而为最低功率)操作元件,NMOS元件必须使用低工作函数金属而PMOS 元件则必须使用高工作函数金属。即便有许多种金属可供挑选,但其中仅有少数具有稳定的
  • 关键字: ASM  CMOS  

专家聚首谈FinFET趋势下3D工艺升级挑战

  •   日前,SeMind举办了圆桌论坛,邀请半导体设计与制造的专家齐聚一堂,共同探讨未来晶体管、工艺和制造方面的挑战,专家包括GLOBALFOUNDRIES的高级技术架构副总裁Kengeri SUBRAMANI ,Soitec公司首席技术官Carlos Mazure,Intermolecular半导体事业部高级副总裁兼总经理Raj Jammy以及Lam公司副总裁Girish Dixit。   SMD :从你们的角度来看,工艺升级短期内的挑战是什么?   Kengeri :眼下,我们正在谈论的28nm到2
  • 关键字: FinFET  3D  

争抢1xnm代工商机 晶圆厂决战FinFET制程

  •   鳍式电晶体(FinFET)将成晶圆厂新角力战场。为卡位16/14纳米市场商机,台积、联电和格罗方德(GLOBALFOUNDRIES)正倾力投资FinFET技术,并各自祭出供应链联合作战策略,预计将于2014~2015年陆续投入量产,让晶圆代工市场顿时硝烟弥漫。   FinFET制程将成晶圆厂新的角力战场。为卡位16/14纳米市场商机,并建立10纳米发展优势,台积电、联电和格罗方德正倾力投资FinFET技术,并已将开战时刻设定于2014?2015年;同时也各自祭出供应链联合作战策略,期抗衡英特尔和三星
  • 关键字: FinFET  晶圆  

东芝推出移动设备用的CMOS-LDO

  • 东芝公司(Toshiba Corporation) (TOKYO:6502)已经扩充了其200mA单输出CMOS-LDO稳压器阵容。该系列产品专为移动 ...
  • 关键字: 移动设备  CMOS-LDO  

高电压CMOS放大器利用单个IC实现高阻抗检测

  • 电压的准确测量需要尽量减小至被测试电路之仪器接线的影响。典型的数字电压表 (DVM) 采用 10M 电阻器网络以把负载效应保持在不显眼的水平,即使这会引起显著的误差,尤其是在包含高电阻的较高电压电路中。
  • 关键字: 凌力尔特  LTC6090  CMOS  放大器  电阻器  

台湾第3季IC封测产值季增4.5%

  •   台湾第3季IC封测产业产值可较第2季成长4.5%。展望第3季台湾半导体封装测试产业趋势,IEK ITIS计划预估,第3季台湾封装及测试业产值分别可达新台币757亿元和336亿元,分别较第2季微幅成长4.6%和4.3%。   IEK ITIS计划指出,展望第3季,高阶智慧型手机市场反应趋弱,封测厂蒙上一层阴影;第3季智慧型手机、平板电脑以及大型数位电视终端产品需求可能趋缓,汰旧换新动能略有转弱,整体电子业库存调整时间可能拉长。   展望今年全年IC封装测试产业表现,IEK ITIS计划指出,虽然高阶
  • 关键字: IC封测  CMOS  
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