semicon china 2025 文章
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资腾科技将亮相SEMICON China国际半导体展,展示CMP(Chemical Mechanical Polishing,化学机械研磨)
超洁净空气PVA刷轮。针对埃米时代对晶圆洁净度与先进制程稳定性的更高要求,该刷轮可有效降低微粒与制
程残留,缩短预清洁时间,并减少晶圆空片用量,同时实现100%去离子水透水率,全面强化先进制程与先进封
装良率。
资腾于2026年3月25日至27日参加SEMICON China国际半导体展,并在上海新国际博览中心N3馆 3187号展台展
示多项先进制程解决方
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资腾 EMICON China CMP超洁净刷轮 先进制程 良率提升
在半导体行业盛会SEMICON China 2026盛大举办之际,全球知名的真空技术综合解决方案提供商—爱发科集团,以“解锁无限可能——真空技术驱动的创新未来”为主题重磅出展,并受邀出席同期中国显示大会论坛。在论坛上,爱发科中国市场总监王禹发表演讲,分享了针对AI+AR市场爆发式增长,爱发科在新型显示领域打造的全链路解决方案。赋能AI,智造未来:ULVAC电子半导体技术研讨会3月26日,爱发科中国在上海成功举办【赋能AI,智造未来:ULVAC电子半导体技术研讨会】。本次研讨会汇聚了来自MEMS、光通信、光
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爱发科 SEMICON China
2026年3月25日,中国上海——3月25日至27日,中国半导体行业年度盛会SEMICON China 2026上,半导体与电子制造软硬件领军企业ASMPT与其子品牌奥芯明隆重推出最新款引线键合机AERO PRO。该设备专为高密度应用打造,兼具高速与高精度特性,可对直径小至0.5 密耳的超细引线实现卓越的键合精度与灵活性。AERO PRO搭载实时监测与预测性维护功能,可优化设备性能,并无缝融入智能制造环境。革新精密键合技术,实现无与伦比的灵活性AERO PRO搭载全新专利换能器技术X Power2.0,可
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SEMICON China ASMPT 引线键合
1 VPU向高效、高质、低延迟发展随着AI技术的爆发,带来了视频分辨率和数据量的不断攀升,专用于视频编解码处理的VPU应运而生,成为各类视频应用的“超级工匠”。如今,VPU已成为支撑云、边、端等关键场景的核心算力单元,是半导体和AI算力赛道的重要组成部分。VPU主要由两大类芯片/硬件模块构成:一类是VPU芯片;另一种是嵌入在各种SoC、处理器、控制器等芯片/硬件模块中的VPU引擎。但是万变不离其宗,都离不开强大的VPU IP核芯。目前VPU、VPU IP的发展趋势是什么?答案是:在云、边、端场景中AI无
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VPU VPU IP 安谋科技Arm China 安谋
2026年3月26日,中国上海——半导体与电子制造软硬件领军企业ASMPT与其子品牌奥芯明于2026年中国半导体展会(SEMICON China 2026)N4451展位,推出全新裸晶圆处理系统ALSI LASER1206。本次展会主题为“智创‘芯’纪元”,ALSI LASER1206精准响应专注于先进封装的半导体企业日益增长的需求,为人工智能、智能出行等高增长市场提供解决方案。该全新系统搭载专利多光束激光加工技术,可实现膜框与裸晶圆全自动化处理,进一步丰富公司产品线,并重点聚焦前道工艺领域。该新一代激光
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ASMPT 奥芯明 SEMICON China 晶圆激光切割
上海,2026年3月24日——半导体制造温度管理解决方案的行业领导者 ERS electronic 将于3月25日至27日亮相SEMICON China 2026 ,展示其晶圆针测及先进封装技术,包括晶圆级和面板级解键合与翘曲校正技术。展会前夕,首席执行官Laurent Giai-Miniet于3月24日出席了由SEMI中国主办的“异构集成(先进封装)国际会议:AI & CPO”,并发表了主题演讲。在主题演讲中,他重点强调ERS为AI和HPC晶圆测试、3D堆叠先进封装提供量身定制的、旨在最大化良率
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ERS electronic SEMICON China 2026
全球半导体与显示技术领域的关键材料创新领导者——永光化学(Everlight Chemical),今年度携手安光微电子(ANDA)即将参展3 月 25 日至 27 日在上海新国际博览中心举行的「SEMICON China 2026」。永光及安光微电子将于 N5 馆 5365 号展位,向全球产业伙伴展示其在先进半导体制程材料的尖端研发成果,并强调「以化学创新,驱动科技与生活共好」的企业愿景。作为半导体产业链中不可或缺的技术推进者,永光化学始终致力于透过卓越的化学工程技术,解决当前晶圆制造与封装制程中的核心挑
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永光化学 Everlight Chemical 安光微电子 ANDA SEMICON China 2026
2026年3月19日,上海——一年一度的半导体行业盛会SEMICON China将于2026年3月25-27日在上海新国际博览中心举办。同时,由SEMI和IEEE联合主办的集成电路科学技术大会(CSTIC)2026也将于3月22-24日在上海浦东嘉里大酒店召开。作为材料工程创新的领先企业之一,应用材料公司将参与并支持SEMICON China和CSTIC,通过大会赞助、主题演讲和论文展示的方式,与全球半导体产业同仁深度交流,共享行业技术成果,推动产业创新和高质量发展。 应用材料公司副总裁、应用材
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应用材料公司 SEMICON 应用材料
尼得科精密检测科技株式会社(以下简称“本公司”)将参展2026年2月11日(周三)~2月13日(周五)于韩国首尔COEX会议中心举办的“SEMICON KOREA 2026”。本次展会将展出助力下一代功率半导体(IGBT/SiC)市场的检测设备“NATS系列”以及汇总了集团技术的最新检测解决方案本公司子公司尼得科SV Probe将首次在韩国展出晶圆检测夹具“探针卡”的最新解决方案,包括可实现半导体器件温度测量的TC(Thermo Couple:热电偶)探针,以及采用2D MEMS技术的探针卡等产品。此外,
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尼得科精密检测科技 SEMICON KOREA
MRAM全球创新论坛是行业内磁阻随机存取存储器(MRAM)技术的顶级平台,汇聚了来自业界和学术界的顶尖磁学专家与研究人员,共同分享MRAM的最新进展。今年已是第13届,这一为期一天的年度会议将于2025年12月11日IEEE国际电子器件会议(IEDM)之后的第二天,上午8:45至下午6点在旧金山联合广场希尔顿酒店帝国宴会厅A/B举行。2025年MRAM技术项目包括12场由全球顶尖MRAM专家邀请的演讲,以及一个晚间小组讨论。这些项目将聚焦于技术开发、产品开发、工具开发及其他探索性话题。MRAM技术是一种非
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MRAM 存储技术创新 2025 创新论坛
超大规模园区和电网扩张带来的创纪录需求正与矿山产量放缓发生冲突。铜生产商和市场分析师开始描绘出一个供应缺口,正值超大规模人工智能园区接近创纪录的用电量之际。国际能源署最新的关键矿产展望显示,现有和计划中的铜矿仅满足2035年预计需求的约70%。伍德·麦肯齐预计短缺将更早出现,2025年精铜短缺预计为304,000吨,2026年缺口更大。这一趋势与一波由人工智能驱动的电力基础设施浪潮汇聚,将长期存在的工业金属转变为数据中心扩展的实际瓶颈。据伍德·麦肯齐、查尔斯·库珀在接受《金融时报》采访时表示,建设数据中心
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AI 数据中心 铜资源短缺 2025 铜缺口 铜矿供应紧 铜价上涨
第六届IEEE WINTECHCON 2025于2025年11月12日至13日,召集了800多名女性工程师、技术专家、行业领袖、学术界、学生和研究人员,主题为“以数据驱动的半导体创新改变未来”。今年,该会议由IEEE班加罗尔分会、IEEE计算机科学学会班加罗尔分会和Women in Engineering AG班加罗尔分会联合主办,由三星半导体印度研究院(SSIR)主办。IEEE班加罗尔分会主席Chandrakanta Kumar博士表示:“IEEE Wintechcon 2025展示了印度半导体创新引擎
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半导体产业 嵌入式系统 IEEE Wintechon 2025 3D IC 集成
11月20日至21日,由成都高新发展股份有限公司、芯脉通会展策划(上海)有限公司、成都市集成电路行业协会、重庆市半导体行业协会、成都国家芯火双创基地共同主办,成都海光集成电路设计有限公司、成都华微电子科技股份有限公司支持的“2025集成电路发展论坛(成渝)暨三十一届集成电路设计业展览会”(简称ICCAD-Expo 2025)在成都中国西部国际博览城成功举办。本届大会以“开放创芯,成就未来”为主题,创新设置了“1+10+1”系列活动架构,包括1场高峰论坛、10场专题论坛及1场产业展览。活动聚焦行业前沿技术、
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ICCAD-Expo 2025
晶圆到晶圆混合键合和背面技术的进步将CMOS 2.0从概念变为现实,为计算系统扩展提供了更多选择。在VLSI 2025 上,imec 研究人员展示了将晶圆间混合键合路线图扩展到250 nm 互连间距的可行性。他们还通过制造120 nm 间距的极小的贯穿介电通孔,在晶圆背面显示出高度致密的连接。在晶圆两侧建立如此高密度连接的能力为开发基于CMOS 2.0 的计算系统架构提供了一个里程碑,该架构依赖于片上系统内功能层的堆叠。基于CMOS 2.0 的系统还将利用包括供电网络(BSPDN)在内的后端互连,其优势可
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202510 晶圆连接 VLSI 2025 imec
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