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工信部推广国产DUV光刻机,最小套刻精度≤8nm

作者: 时间:2024-09-18 来源:SEMI 收藏

大半导体产业网消息,自中华人民共和国工业和信息化部官网获悉,日前,工信部宣布印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》。

本文引用地址:https://www.eepw.com.cn/article/202409/462993.htm

其中,在《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》电子专用装备目录下,集成电路设备方面包括:氟化氩光刻机,光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤

在“工信微报”官方公众号中提到,重大技术装备是国之重器,事关综合国力和国家安全。中国首台(套)重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品,包括整机设备、核心系统和关键零部件等。该文件的发布旨在促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。



关键词: 国产光刻机 8nm

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