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国产光刻机 文章 进入国产光刻机技术社区

工信部推广国产DUV光刻机,最小套刻精度≤8nm

  • 大半导体产业网消息,自中华人民共和国工业和信息化部官网获悉,日前,工信部宣布印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》。其中,在《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》电子专用装备目录下,集成电路设备方面包括:氟化氩光刻机,光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。在“工信微报”官方公众号中提到,重大技术装备是国之重器,事关综合国力和国家安全。中国首台(套)重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品,包括整机设备、核心系
  • 关键字: 国产光刻机  8nm  
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国产光刻机介绍

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