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工信部推广国产DUV光刻机,最小套刻精度≤8nm

  • 大半导体产业网消息,自中华人民共和国工业和信息化部官网获悉,日前,工信部宣布印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》。其中,在《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》电子专用装备目录下,集成电路设备方面包括:氟化氩光刻机,光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。在“工信微报”官方公众号中提到,重大技术装备是国之重器,事关综合国力和国家安全。中国首台(套)重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品,包括整机设备、核心系
  • 关键字: 国产光刻机  8nm  

首发18A工艺!Intel第三代酷睿Ultra Panther Lake已点亮 明年见

  • 8月7日消息,Intel即将发布第二代酷睿Ultra处理器,包括低功耗的Lunar Lake(9月4日0点)、高性能的Arrow Lake(10月K系列其他明年CES),现在又公布了后续第三代酷睿Ultra Lunar Lake。Intel官方宣布,Intel 18A(1.8nm级别)制造工艺、Panther Lake酷睿处理器、Clearwater Forest至强处理器(或为至强7)都已经走出实验室,成功点亮,并进入操作系统!其中,Panther Lake搭配的内存已经可以运行在设定的频率上,显示性能
  • 关键字: 英特尔  酷睿处理器  18A  1.8nm  

三星 8LPP 工艺参考流程利用 Mentor Tessent 工具节省大量设计测试时间

  •   Mentor, a Siemens business 今天宣布,三星电子有限公司根据三星代工厂的 8nm LPP(低功耗 Plus)工艺对 MentorTessent® 产品进行了认证。对于针对移动通信、高速网络/服务器计算、加密货币和自动驾驶等市场的特大型设计,这些工具可大幅缩短设计和测试时间。  当今领先半导体器件的特大型设计可能会因需要大量计算资源、测试向量生成时间太长或在设计流程中执行得太晚而受到拖累。TessentTestKompress® 工具通过提供采用层次化可测试性设计 (DFT) 方
  • 关键字: 三星  8nm  

三星宣布8nm芯片已经可以量产,10nm正在路上

  •   近日,三星电子正式宣布其研发的 8nmLPP技术已经通过验证,并将用于高性能应用中,已准备批量生产。三星表示,使用 8纳米芯片可以大大提升当前应用程序的效能,适用于网络和服务器等应用。  官方宣称 8nm芯片已经可以量产,而骁龙 855目前还没有发布,所以我们猜测 8nm工艺可能在骁龙 855上首发。另外,也有消息称,三星 note9将采用 8nm工艺,而且下一代的 snapdragon处理器,多半会由 
  • 关键字: 三星  8nm  
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