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国际微电子前沿设计技术高级学术研讨会召开

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作者:电子产品世界时间:2006-10-16来源:eepw收藏
近日,由中国科学院EDA中心,Synopsys中国公司和CAS-Synopsys先进SoC设计联合实验室共同举办的首届“”在京。以现任IEEE主席兼首席执行官Michael Lightner教授为团长的五位世界知名教授、专家,就国际微电子行业前沿设计技术发展方向的主题做了专题报告,并与与会人员进行了广泛而热烈的讨论。研讨会为期一天。

目前中国IC市场已经建立了从IC设计、制造、封装和的完整产应链,但产业规模尚小。如何把市场和人才的战略优势转化为中国IC产业的竞争力是关键所在。此次举办“国际微电子前沿设计高级研讨会”的目的,就是应对中国IC与系统设计产业发展对超深亚微米和纳米前沿设计技术和人才的迫切需求,促进对国际集成电路技术最新发展动态的把握,推动国内自主创新能力的提高和人才培养水平的提升。

作为中国第一个具有世界先进水平的电子设计技术研究与教育化公共平台,中国科学院EDA中心的使命是在中国构建起先导技术研究平台和人才培养的基地,为推动我国集成电路设计技术的进步与产业发展做出贡献。中科院EDA中心主任叶甜春表示:“根据中科院‘面向国家战略需求、面向世界科技前沿’的办院方针,中科院EDA中心一直致力于推进国际间的交流与合作,与合作伙伴经常性地邀请国际高层专家来华举办技术交流会和研讨会,共同探讨新技术与新思想。希望与会者通过此次研讨会,能对世界前沿电子设计技术有所了解,对通过自主创新发展中国的电子设计技术有所启发,有所裨益。”

Synopsys中国区董事总经理潘建岳表示:“秉承‘推动产业,成就客户,发展自己’的理念,Synopsys 一直以来都与中科院EDA中心在相关领域保持着紧密合作,我们非常荣幸能邀请到世界顶尖的集成电路专家来科学院举办高级学术讲座,并希望以此进一步推动科学院在集成电路领域的国际合作和交流。”




在研讨会上,Giovanni De Micheli,Thomas.M.Williams,Wolfgang Fichtner,Charles Chiang等四位世界知名的教授和专家分别就微电子、集成电路设计和制造前沿技术进行了四项专题报告。发言者们对超深亚微米和纳米前沿设计技术精辟阐述,加深了国内学者对这些新兴领域的认知。与会的国内专家学者纷纷表示,研讨会对大家了解国际集成电路设计技术最新发展动态,把握集成电路学科建设方向,提升学术水平以及进一步建立国际合作都大有帮助。

首次国际高级学术研讨会的成功举办,也将中国科学院EDA中心和Synopsys中国公司在国际学术交流领域的合作又向前推进了一步。今后,双方将会定期举办类似的学术交流活动,共同致力于中国IC产业的发展和进步。


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